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聚束科技为中国芯片行业快速崛起持续助力

发布时间: 2020-11-19 10:54 来源:聚束科技(北京)有限公司

11月18日,由北京市经济和信息化局、北京经济技术开发区管委会共同主办、北京半导体行业协会、国际半导体产业协会等联合承办的“2020北京微电子国际研讨会暨IC WORLD大会”在北京朝林松源酒店举行。



本届大会以“开创芯启程,领跑芯未来”为主题,邀请了300多位业内知名专家学者和企业领袖,围绕信息技术产业的核心——集成电路产业发展、环境变化、创新技术等开展学术交流。聚束科技(北京)有限公司(以下简称聚束科技)总经理何伟受邀做专题报告,以高通量扫描电镜为基础,介绍了其在芯片安全分析中的应用。



何伟表示: 芯片作为一款集成度高,结构精密的电子元器件,是集成电路的载体。中国进口芯片占全球集成电路市场规模的45%,超3000亿美元,国内芯片产能仍有不足。从半导体单晶片到制成最终成品,为了确保产品性能合格、稳定可靠以及高成品率,须经历数十甚至上百道工序。而失效分析是产品可靠性工程中一个重要组成部分,目的是借助各种测试分析技术和分析程序确认电子元器件的失效现象,分辨其失效模式和失效机理,并最终确认其失效原因,提出改善设计和制造工艺的建议,防止失效的重复出现,提高元器件的可靠性。进行失效分析往往需要采用先进的物理、冶金及化学的分析手段,扫描电镜分辨率高(纳米级),景深大而且可以从几十倍到几千倍连续扩大,是材料研究和分析的重要工具。


而传统扫描电镜成像速度慢,智能化程度低,难以满足半导体工业要求。会上,何伟提出一个惊人的数据比对:以2nm像素扫描总数据量30TB ,区域10㎜×10㎜ 的芯片,传统扫描电镜需140天,聚束科技的高通量(场发射)扫描电镜仅需7天,且自动拼接成功率大于99%!



芯片 由高通量(场发射)扫描电镜拍摄


为什么时间差距如此之大?何伟现场也带来了解答:主要是两点,“快”且“不停”,何为快?聚束科技的高通量(场发射)扫描电镜通过对快速成像技术、纳米平台、高速偏转以及AI控制的系统化创新设计,实现了高通量成像,成像速度可达到传统电镜的数十倍以上。何为“不停”?高通量SEM系统旨在处理厘米级大面积和TB级海量数据的实时自动成像,可7*24小时无人值守运行。借助其高速成像和“不间断”自动硬件控制,Navigator-100可以在合理的时间内,以良好的图像质量轻松获取大面积的纳米级信息,甚至整个ROI(感兴趣的区域)。

目前,国家大力支持芯片企业的发展,将支持半导体企业的发展提升至了国家战略的高度。聚束科技作为国产扫描电镜制造商,将持续助力国内芯片行业创新发展!




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