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QUANTUM量子科学仪器贸易（北京）有限公司
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| 参考报价： | 面议 | 型号： | Microwriter ML3 |
| 品牌： | Quantum Design | 产地： | 英国 |
| 关注度： | 1466 | 信息完整度： |  |
| 样本： | 典型用户： | 暂无 |
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小型台式无掩膜光刻系统
小型台式无掩膜光刻系统Microwriter ML3是英国Durham Magneto Optics公司专为实验室设计开发，为微流控、SAW、半导体、自旋电子学等研究领域提供方便高效的微加工方案。
 | 传统的光刻工艺中所使用的铬玻璃掩膜板需要由专业供应商提供，但是在研发环境中，掩膜板的设计通常需要经常改变。无掩膜光刻技术通过以软件设计电子掩膜板 的方法，克服了这一问题。与通过物理掩膜板进行光照的传统工艺不同，激光直写是通过电脑控制一系列激光脉冲的开关，在光刻胶上直接曝光绘出所要的图案。 Microwriter ML3 是一款多功能激光直写光刻系统，具有结构小巧紧凑(70cm X 70cm X 70cm)，无掩膜直写系统的灵活性，还拥有高直写速度，高分辨率的特点。采用集成化设计，全自动控制，可靠性高，操作简便。适用于各种实验室桌面。 |
产品特点
| Focus Lock自动对焦功能 Focus Lock技术是利用自动对焦功能对样品表面高度进行探测，并通过Z向调整和补偿，以保证曝光分辨率。 | 光学轮廓仪 Microwriter ML3 配备光学轮廓探测工具，用于匀胶后沉积层，蚀刻层，MEMS等前道结构的形貌探测与套刻。Z向高精度100 nm，方便快捷。 | |
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| 直写前预检查 软件可以实时显微观测基体表面，并显示预直写图形位置。通过实时调整位置、角度，直到设计图形按要求与已有结构重合，保证直写准确。 | 标记物自动识别 点击“Bulls-Eye”按钮，系统自动在显微镜图像中识别光刻标记。标记物被识别后，将自动将其移动到显微镜中心位置。 | |
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| 简单的直写软件 MicroWriter 由一个简单直观的Windows界面软件控制。工具栏会引导使用者进行简单的布局设计、基片对准和曝光的基本操作。该软件在Windows10系统下运行。 | Clewin 掩模图形设计软件 • 可以读取多种图形设计文件（DXF, CIF, GDSII, 等） • 可以直接读取TIFF, BMP 等图片格式 • 书写范围只由基片尺寸决定 | |
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产品参数
| Microwriter ML3 | 基本型 | 增强型 | 旗舰型 |
| 大样品尺寸 | 155×155×7mm | 155×155×7mm | 230×230×15mm |
| 大直写面积 | 149mm x 149mm | 149mm x 149mm | 195mm x 195mm |
| 曝光光源 | 405 nm LED 1.5W | 405 nm LED 1.5W | 385 nm LED 适用于SU-8 （365+405nm双光源可选） |
| 直写分辨率 | 1μm | 1μm and 5 μm | 0.6μm, 1μm, 2μm, 5μm |
| 直写速度 | 20mm2/min @ 1μm | 20mm2/min @ 1μm 120mm2/min @ 5μm | 25mm2/min @ 0.6μm 50mm2/min @ 1μm 100mm2/min @ 2μm 180mm2/min @ 5μm |
| 对准显微镜镜头 | x10 | x3 and x10 自动切换 | x3, x5, x10, x20 自动切换 |
| 多层套刻精度 | ±1μm | ±1μm | ±0.5μm |
| 小栅格精度 | 200nm | 200nm | 100nm |
| 样品台小步长 | 100nm | 100nm | 50nm |
| 光学轮廓Z分辨率 | 无(可升级) | 300nm | 100nm |
| 样品表面自动对焦 | 是 | 是 | 是 |
| 灰度直写(255级) | 是 | 是 | 是 |
| 自动晶片检查工具 | 无(可升级) | 有 | 有 |
| 温控样品腔室 | 无 (可升级) | 无 (可升级) | 有 |
| 虚拟模板校准工具 | 无(可升级) | 无(可升级) | 有 |
| 气动减震光学平台 | 无(可升级) | 无(可升级) | 有 |
应用实例
直写分辨率1μm
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直写分辨率0.6μm
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微电制备 光刻胶上的图形 Au电 （SEM） Au电（SEM） |
设计图 光刻胶上的图 形 放大图的显微结构 |
微结构制备
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微流通道制备 |
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注：该产品未在中华人民共和国食品药品监督管理部门申请医疗器械注册和备案，不可用于临床诊断或治疗等相关用途
