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脉冲激光沉积、分子束外延薄膜制备系统(NEW)

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Quantum Design China

参考报价: 面议 型号:
品牌: BlueWave 产地: 美国
关注度: 94 信息完整度:
样本: 暂无样本 典型用户: 暂无


1508124030597135.png薄膜制备领导者


BlueWave是一家著名的美国半导体设备、材料生产商。BlueWave提供多种薄膜制备系统,包括脉冲激光沉积(PLD)、电子束蒸发、热蒸发、反应溅射、热丝化学气相沉积(HFCVD)、热化学气相沉积系统(TCVD)。这些系统是zei理想的薄膜与涂层合成设备。可制备的薄膜包括氮化物、氧化物、多层膜、钻石、石墨烯、碳纳米管、2D材料。Blue Wave还提供相关系统配件,例如基片加热装置、原位监测工具。此外,BlueWave还为您提供标准的薄膜以及材料涂层,例如氧化物涂层、导电薄膜、无定型或纳米晶Si/SiC、晶体AlN-GaN、聚合物、纳米钻石、HFCVD钻石涂层以及器件加工。


1、脉冲激光沉积系统

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产品特点:

◆ 电抛光多空不锈钢超高真空腔体

◆ 可集成热蒸发源或溅射源

◆ 可旋转的耐氧化基片加热台

◆ 流量计或针阀精确控制气体流

◆ 标准真空计

◆ 干泵与涡轮真空泵

◆ 可选配不锈钢快速进样室

◆  可选配基片-靶材距离自动控制系统

◆  是金属氧化物、氮化物、碳化物、金属纳米薄膜、多层膜、超晶格的zei佳设备

 

2、物理气相沉积系统(Physical Vapor Deposition Plus)


产品特点


◆  超高真空不锈钢腔体
◆  电子束、热蒸发、脉冲激光沉积可集成

◆  独立衬底加热,可旋转

◆  多量程气体流量控制器

◆  标准气压计



◆  机械、分子、冷凝真空泵
可选不锈钢快速进样室

◆  衬底和源距离可控

◆  可用于金属氧化物、氮化物、碳化物、金属薄膜

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3、热化学气相沉积系统(TCVD)


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产品特点


◆  高温石英管反应器设计

◆  温度范围:室温到1100℃

◆  多路气体精确控制

◆  标准气压计

◆  易于操作



◆  可配机械泵实现低压TCVD
◆  可用于制备金属氧化物、氮化物、碳化物、金属薄膜

◆  液体前驱体喷头

◆  2英寸超大完美温度均匀区



4、热丝化学气相沉积系统(HFCVD)



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产品特点:


◆  水冷不锈钢超高真空腔

◆   热丝易安装、更换 

◆  4个不同量程气体控制器

◆  标准气压计

◆  衬底与热丝距离可调节

◆  2英寸衬底加热、可旋转 

◆  完美制备金刚石和石墨烯 



新品上线网页更新中,如需了解更多详情,欢迎致电垂询!


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