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脉冲激光沉积、分子束外延薄膜制备系统(NEW)

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Quantum Design China
参考报价: 面议 型号:
品牌: BlueWave 产地: 美国
关注度: 1108 信息完整度:
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AI问答
可以做哪些实验,检测什么? 可以用哪些耗材和试剂?


1508124030597135.png薄膜制备领导者


BlueWave是一家著名的美国半导体设备、材料生产商。BlueWave提供多种薄膜制备系统,包括脉冲激光沉积(PLD)、电子束蒸发、热蒸发、反应溅射、热丝化学气相沉积(HFCVD)、热化学气相沉积系统(TCVD)。这些系统是zei理想的薄膜与涂层合成设备。可制备的薄膜包括氮化物、氧化物、多层膜、钻石、石墨烯、碳纳米管、2D材料。Blue Wave还提供相关系统配件,例如基片加热装置、原位监测工具。此外,BlueWave还为您提供标准的薄膜以及材料涂层,例如氧化物涂层、导电薄膜、无定型或纳米晶Si/SiC、晶体AlN-GaN、聚合物、纳米钻石、HFCVD钻石涂层以及器件加工。


1、脉冲激光沉积系统

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产品特点:

◆ 电抛光多空不锈钢超高真空腔体

◆ 可集成热蒸发源或溅射源

◆ 可旋转的耐氧化基片加热台

◆ 流量计或针阀控制气体流

◆ 标准真空计

◆ 干泵与涡轮真空泵

◆ 可选配不锈钢快速进样室

◆  可选配基片-靶材距离自动控制系统

◆  是金属氧化物、氮化物、碳化物、金属纳米薄膜、多层膜、超晶格的zei佳设备

 

2、物理气相沉积系统(Physical Vapor Deposition Plus)


产品特点


◆  超高真空不锈钢腔体
◆  电子束、热蒸发、脉冲激光沉积可集成

◆  独立衬底加热,可旋转

◆  多量程气体流量控制器

◆  标准气压计



◆  机械、分子、冷凝真空泵
可选不锈钢快速进样室

◆  衬底和源距离可控

◆  可用于金属氧化物、氮化物、碳化物、金属薄膜

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3、热化学气相沉积系统(TCVD)


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产品特点


◆  高温石英管反应器设计

◆  温度范围:室温到1100℃

◆  多路气体控制

◆  标准气压计

◆  易于操作



◆  可配机械泵实现低压TCVD
◆  可用于制备金属氧化物、氮化物、碳化物、金属薄膜

◆  液体前驱体喷头

◆  2英寸超大温度均匀区



4、热丝化学气相沉积系统(HFCVD)



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产品特点:


◆  水冷不锈钢超高真空腔

◆   热丝易安装、更换 

◆  4个不同量程气体控制器

◆  标准气压计

◆  衬底与热丝距离可调节

◆  2英寸衬底加热、可旋转 

◆  制备金刚石和石墨烯 



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注:该产品未在中华人民共和国食品药品监督管理部门申请医疗器械注册和备案,不可用于临床诊断或治疗等相关用途

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