聚势换新 · 样品制备
近日，国务院常务会议审议通过了《推动大规模设备更新和消费品以旧换新行动方案》，旨在加快构建新发展格局、推动高质量发展。方案鼓励淘汰落后设备，到2027年实现多个领域设备投资规模增长、能效提升、资源循环利用效率提高等目标。
Quantum Design中国作为中国与世界先进技术、先进仪器交流的重要桥头堡，致力于通过创新技术与全面解决方案推动国内前沿研究。其中，在样品制备与微纳加工领域积极推出全新先进仪器设备，引进台式无掩模光刻机、高质量单晶生长系列设备、台式PVD、台式CVD、台式ALD等优质设备，助力国内高质量研究。
（欢迎您通过文末联系方式，获取更全面的换新方案）
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新型离子辐照磁性精细调控系统Helium-S®
New
通过离子束工艺来调控薄膜和异质结构，可用于半导体工艺，以及MRAM、斯格明子，磁性隧道结等多种磁性研究。
2
小型台式无掩模光刻机Microwriter
无需掩膜板，结构小巧紧凑；高分辨率（0.4 μm）；适应于MEMS、微流控、芯片等纳米结构制备。
3
新一代高性能激光浮区法单晶炉
New
温度梯度优化方案，温度反馈控制，最高温度3000°C，尤其适合高饱和蒸汽压、高熔点材料及高热导率材料等常规浮区法单晶炉难以胜任的单晶生长工作。
4
3000℃新型高温高压光学浮区炉
最高温度3000°C，最高压力300bar，可生长多种单晶样品，尤其适用于生长各种超导材料单晶，介电和磁性材料单晶，氧化物及金属间化合物单晶等。
5
高精度光学浮区法单晶炉
高效镀金椭球反射镜，占地面积小，操作简单。适合生长高温超导体、介电和磁性材料、金属间化合物、半导体/光学晶体/宝石
6
全新台式三维原子层沉积ALD系统
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多片基片/批量粉末制备；温度条件精确控制；小巧机身设计：75x56x28 cm。
7
全新一代台式高性能多功能PVD薄膜制备系列
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金属有机物热蒸发、磁控溅射、共溅射、反应溅射、配置灵活、功能齐全、智能控制。
8
新型台式高性能CVD石墨烯/碳纳米管快速制备系列
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可快速制备石墨烯的小型CVD系统，最快30分钟即可完成整个过程，完备的智能、安全性设计。
9
全新台式超精准二维材料等离子软刻蚀系统
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超高精准刻蚀，可逐层刻蚀石墨烯，可制造面内缺陷，可对清洗石墨基材表面。
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