CIF推出了专为处理粉状和颗粒状材料样品而设计的粉体专用等离子清洗机。该清洗机可以高效地处理微细甚至分子级别的超细粉体材料，解决了传统真空等离子清洗机无法处理粉体样品的问题。等离子体作用在粉体上，可以有目的地改变其物理化学性质，在保持原有性能的前提下，赋予其新的表面性能。这不仅改善了粉体粒子的浸润性，增强了在介质中的界面相容性，还使其容易分散在水中或有机化合物中。这种粉体材料表面改性方法，提高了材料的附加价值，并拓展了其应用领域。
CIF的CPCP-G系列是新一代带搅拌功能的专为处理粉体样品的等离子清洗机。该清洗机采用质量流量计（MFC）气体输送控制，具有专业、处理样品量大、快速高效、动态清洗、处理均匀、无死角、无污染、气体输入准确等特点。技术参数如下：
型号: CPCP-G, CPCP-Gplus
舱体尺寸: H120XΦ370mm, H120XΦ370mm
舱体容积: 12.8L, 12.8L
石英转瓶尺寸: Φ286xH88mm, Φ286xH88mm
转瓶转速: 1-15rpm/秒可调, 1-15rpm/秒可调
射频电源: 40KHz, 13.56MHz
匹配器: 自动匹配, 自动匹配
射频功率: 10-300W可调, 10-300W可调
气体控制: 质量流量计（MFC）（标配单路，可选双路）
产品尺寸: L618xW520xH665mm
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注：该产品未在中华人民共和国食品药品监督管理部门申请医疗器械注册和备案，不可用于临床诊断或治疗等相关用途
