利用ACQUITY UPC2 应对半导体行业先进光刻材料 (光刻胶)开发与供应所面临的挑战

背景 

光刻材料，比如光刻胶和防反射涂层，是 专门为电子业生产的配方型特种涂层。在 高反射率衬底上处理时，这两种涂层经常 结合使用，以尽量减少刻痕并控制线宽， 从而改善图案转移。染色光刻胶则是将防 反射涂层与光刻胶进行有机结合的统一体。 该系列中的许多产品都采用芳香偶氮染料， 如苏丹红(Sudan dyes)系列1,2,3。 

由于染料分析、染料溶解性的不同以及其 它制造偏差，因此需要进行产品分析，以 便对染料浓度进行校准调节。目前的分析 方法是对流延膜进行紫外测量，并进行功 能评价，这样会产生没有特定组分信息的 大量数值。因此，需要进行其它的功能测 试，这样会增加制造周期，以及超过2,000 美元/批次的测试成本。此外，通常采用正 相HPLC检测来进行记入错误的批量校正。 HPLC检测循环时间为12至24小时，涉及大 量的样品制备，包括聚合物沉淀和过滤。