Leica EM ACE200 低真空镀膜仪用于X射线微区元素分析，制备

在电子显微镜领域，往往需要对样品进行表面镀膜从而 使样品表面成像或图像质量得到改善。在样品表面覆盖一层导电的金属薄膜可以消除荷电效应，降低电子束对

样品的热损伤，并可以提高SEM对样品进行形貌观察时 所需的二次电子信号量。精细的碳膜具有电子束透明且导电的特性，因而常应用于X射线微区元素分析，制备

网 格支持膜，以及制备适宜于TEM观察的复型。需要怎样的镀膜技术取决于分辨率和应用需求。Leica EM ACE 镀膜仪家族提供在各应用领域所需的镀膜解决方案。

Leica EM ACE 一键式镀膜仪系列有两个版本可选：

※ Leica  EM ACE200适用于常规SEM和TEM分析；

※ Leica EM ACE600 高真空镀膜仪适用于高分辨率TEM和FE-SEM分析。Leica  EM ACE600可以方便地升级为带有真空冷冻传输系统的冷冻镀膜仪。

Leica EM ACE200是一款高品质台式镀膜仪，用来制备电子显微镜所需的均匀的金属导电膜或碳膜。

这款自动化设备既可以配置成溅射镀膜仪又可以配置 成碳丝蒸发镀膜仪。或者，根据需要，Leica EM ACE200 可以在一台设备上装配可调换镀膜源，实现两种镀膜 方式。另外，可选配的功能有：

● 石英片膜厚监控- 用于制备可重复性镀膜

● 行星旋转样品台-用于对裂纹型样品喷镀均匀镀膜

●  辉光放电功能-使TEM网格亲水化

　Leica EM ACE200是一款低真空镀膜仪，可以选择离子溅射镀金属膜或者碳丝蒸发镀碳膜功能，或者同时具有这两种功能。能够满足日常SEM需求，也可用于X-射线能谱及波谱分析，或者TEM铜网镀碳膜。全自动电脑控制，自动完成抽真空，镀膜，放气等全过程，一键操作。采用当下非常流行的触摸屏控制，简单方便。

特点

　　• 可任选离子溅射模式、碳丝蒸发镀碳模式，或者双模式，可选辉光放电（用于网格表面亲水化）

　　• 专利设计脉冲式碳丝蒸发方式，可精确控制碳膜厚度

　　• 可选石英膜厚检测器，精确控制镀膜厚度，精度达0.1nm

　　• 全自动程序控制，自动完成抽真空，镀膜，放气等过程

　　• 触摸屏控制，简单方便

　　• 真空度≤7×10 -3 mbar

　　• 溅射电流：0-150mA可调

　　• 方形样品仓专利设计，样品仓尺寸：140mm（宽）×145mm（深）×150mm（高）

　　• 工作距离调节范围：30mm-100mm

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