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微流控芯片加工:EVG 610单面/双面光刻机

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参考报价: 面议 型号: EVG 光刻机610系列
品牌: EVG 产地: 奥地利
关注度: 21 信息完整度:
样本: 暂无样本 典型用户: 暂无
产地属性欧洲

EVG610单面/双面光刻机

 

EVG-610.png 

 

一、 简介

 

EVG公司成立于1980年,公司总部和制造厂位于奥地利,在美国、日本和台湾设有分公司,并在其他各地设有销售代理及售后服务部,产品和服务遍及世界各地。

EVG公司是一家致力于半导体制造设备的全球供应商,其丰富的产品系列包括:涂胶和喷胶/显影机/热板/冷板、掩模版光刻/键合对准系统、基片热压键合/低温等离子键合系统、基片清洗机、基片检测系统、SOI 基片键合系统、基片临时键合/分离系统、纳米压印系统。

目前已有数千台设备安装在世界各地,被广泛地应用于MEMS微机电系统/微流体器件,SOI基片制造,3D封装,纳米压印,化合物半导体器件和功率器件等领域。

EVG610是一款非常灵活的、适用于研发和小批量试产的对准系统,可处理zui大200mm之内的各种规格的晶片。EVG610支持各种标准的光刻工艺,例如:真空、软、硬接触和接近曝光;也支持其他特殊的应用,如键合对准、纳米压印光刻、微接触印刷等。EVG610系统中的工具更换非常简便快捷,每次更换都可在几分钟之内完成,而不需要专门的工程人员和培训,非常适合大学、研究所的科研实验和小批量生产。

 

二、应用范围

EVG光刻机主要应用于半导体光电器件、功率器件、微波器件及微电子机械系统(MEMS)、硅片凸点、化合物半导体等领域,涵盖了微纳电子领域微米或亚微米级线条器件的图形光刻应用。

 

三、主要特点

u 支持背面对准光刻和键合对准工艺

u 自动的微米计控制曝光间距

u 自动契型补偿系统

u 优异的全局光强均匀度

u 免维护单独气浮工作台

u zui小化的占地面积

u Windows图形化用户界面

18263262536(微信同号)

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注:该产品未在中华人民共和国食品药品监督管理部门申请医疗器械注册和备案,不可用于临床诊断或治疗等相关用途

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