电子束直写系统 EBPG5150

(一). 多功能电子束光刻设备Pioneer Two:

 Pioneer Two是一款高性价比的成套的电子束光刻设备，采用30kV Gemini电子束技术，应用于2英寸以下晶圆的纳米级光刻、高分辨成像及低压电子束光刻。

20keV下在HSQ胶上曝光亚8nm线条

(二). 多功能电子束光刻设备eLine Plus:

    eLine Plus是一款集成了纳米操纵设备，如纳米探针、用于聚焦电子束诱导过程的气体注入系统等各种多功能选件的电子束光刻设备，广泛应用于学校和各大科研机构，采用30kV Gemini电子束技术，应用于4英寸以下基板的纳米级光刻、纳米工程、纳米操纵、纳米探测、纳米轮廓仪、聚焦电子束诱导和成像分析等。

HSQ胶上制作亚5nm线条

(三). 专业型电子束光刻设备Raith150 Two:  

    Raith150 Two是一款高分辨电子束光刻设备，采用30kV Gemini电子束技术，应用于8英寸以下基板（可曝光面积6英寸）的纳米级光刻、高分辨成像及低压电子束光刻，可实现亚5nm的曝光结构。

HSQ胶上制作亚4.5nm线条及PMMA胶上制作精细的11nm线条

(四). 专业型电子束光刻设备Voyager:  

    Voyager是一款高性价比采用创新的eWrite体系结构的电子束光刻设备，采用50kV eWrite 电子束技术，应用于8英寸以下基板（可曝光面积6英寸）的高速直写，适合衍射光学元件、防伪元件的加工及化合物半导体器件的高速加工。

HSQ胶上制作亚7nm线条

(五). 专业型电子束光刻设备EBPG5150/5200:  

    EBPG5150/5200是一款高自动化的电子束光刻设备，采用100kV EBPG 电子束技术，应用于8英寸以下基板（5150可曝光面积6英寸、5200可曝光面积8英寸）的高深宽比纳米结构曝光、高速电子束直写，适合防伪标识的加工及化合物半导体器件的高速加工。

电子束直写系统EBPG5150使用了155mm大小的样品台，采用跟电子束曝光机EBPG5200一样的通用光刻平台设计，对电子束直写应用进行了优化。它可以载入不同大小的样品,包括多片散片以及完整的硅片。 

Improved Specifications

· Ultra-fast, low-noise pattern generator 125 MHz

· Extreme beam current up to 350 nA

· Excellent direct write performance with overlay accuracy of ≤ 5nm

 高束流密度，热场发射电子枪可以在20、50和100kV之间切换

 155mm的平台

最小曝光特征尺寸小于8nm

 高速度曝光，可采用50或100MHz的图形发生器

在所有KVs加速电压下，可连续改变的写场大小，最大可以到1mm

GUI人机交互界面友好，简洁易用，适用于多用户环境

 多项灵活可选择的配置，可以适用于不同应用的需求

可选的系统增强升级

EBPG5150可以选择不同的升级选项，以满足用户不同的技术和预算需求。让全世界的高校等研究类用户也可以使用这款非常先进、高自动化的电子束光刻系统。

电子束直写系统EBPG5150 应用

咨询：182 6326 2536（微信同号）；

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注：该产品未在中华人民共和国食品药品监督管理部门申请医疗器械注册和备案，不可用于临床诊断或治疗等相关用途