NMC-3000等离子辅助MOCVD系统：针对InGaN及AlGaN沉积工艺所研发的台式等离子辅助金属有机化学气相沉积系统（PA-MOCVD）,该系统具有5个鼓泡装置（各带独立的冷却槽）、加热的气体管路、950度样品台三个气体环、淋浴式气体分布的RF射频等离子源以及工艺终端的N2冲洗、250l/sec涡轮分子泵及无油真空泵（5 x 10-7Torr极限真空）、PC全自动控制。

NTE-3500（M）热蒸发系统：NTE-3500是PC控制的紧凑型立式热蒸发系统，在有机物和金属沉积方面具有广泛的应用。设备具有占地面积小、干净、均匀、可控及可重复的工艺特点。具有低价格, 高性能以及高能力的特点，可满足于客户研发及小规模生产的应用要求，该系统可以在设定的RMS电流下，或者在闭环的配置下操作，并且在这种情况下沉积速度的变化被用于调节RMS电流以维持恒定的沉积速度。

NTE-3000热蒸发系统：NTE-3000是PC控制的台式热蒸发系统，在有机物和金属沉积方面具有广泛的应用。设备具有占地面积小、干净、均匀、可控及可重复的工艺特点。具有低价格, 高性能以及高能力的特点，可满足于客户研发及小规模生产的应用要求，该系统可以在设定的RMS电流下，或者在闭环的配置下操作，并且在这种情况下沉积速度的变化被用于调节RMS电流以维持恒定的沉积速度。

NANO-MASTER（那诺-马斯特）Platens样品台，又称为基板或加热板，是真空镀膜设备中常用到关键部件。因此样品台可以整合到RIE刻蚀、ICP刻蚀、PECVD、ALD等刻蚀和沉积设备中，给晶圆等样片进行均匀加热和冷却处理，为微纳米薄膜工艺提供精确的温度环境。

NANO-MASTER NOC-4000光学涂覆系统提供先进的技术，在一个腔体中实现原子级清洗和光学样片抛光，然后把样片传送到第二级腔体中对同一样片进行表面涂覆，整个过程不间断真空。系统的设计也可以支持其中任一个腔体的单独使用，同时具备各自的自动上/下载片功能。

NTE-4000（M）热蒸发系统：NTE-4000是PC控制的立式热蒸发系统，在有机物和金属沉积方面具有广泛的应用。设备具有占地面积小、干净、均匀、可控及可重复的工艺特点。具有低价格, 高性能以及高能力的特点，可满足于客户研发及小规模生产的应用要求，该系统可以在设定的RMS电流下，或者在闭环的配置下操作，并且在这种情况下沉积速度的变化被用于调节RMS电流以维持恒定的沉积速度。

NTE-4000（A）全自动热蒸发系统：全自动立式热蒸发系统，在有机物和金属沉积方面具有广泛的应用。设备具有占地面积小、干净、均匀、可控及可重复的工艺特点。具有低价格, 高性能以及高能力的特点，可满足于客户研发及小规模生产的应用要求，该系统可以在设定的RMS电流下，或者在闭环的配置下操作，并且在这种情况下沉积速度的变化被用于调节RMS电流以维持恒定的沉积速度。

NTE-4000（A）全自动热蒸发系统：全自动立式热蒸发系统，在有机物和金属沉积方面具有广泛的应用。设备具有占地面积小、干净、均匀、可控及可重复的工艺特点。具有低价格, 高性能以及高能力的特点，可满足于客户研发及小规模生产的应用要求，该系统可以在设定的RMS电流下，或者在闭环的配置下操作，并且在这种情况下沉积速度的变化被用于调节RMS电流以维持恒定的沉积速度。

NTE-3500（A）全自动热蒸发系统：全自动立式热蒸发系统，在有机物和金属沉积方面具有广泛的应用。设备具有占地面积小、干净、均匀、可控及可重复的工艺特点。具有低价格, 高性能以及高能力的特点，可满足于客户研发及小规模生产的应用要求，该系统可以在设定的RMS电流下，或者在闭环的配置下操作，并且在这种情况下沉积速度的变化被用于调节RMS电流以维持恒定的沉积速度。