OPTM系列显微分光膜厚仪头部集成了薄膜厚度测量所需功能。通过显微光谱法测量高精度绝对反射率(多层膜厚度,光学常数),1点1秒高速测量显微分光下广范围的光学系统(紫外至近红外)区域。传感器的安全机制易于分析向导,初学者也能够进行光学常数分析。独立测量头对应各种inline客制化需求,支持各种自定义。
OPTM系列显微分光膜厚仪选型表
OPTM-A1
波長范围:230~800nm
膜厚范围:1nm~35μm
测定时间:1秒/1点
光斑大小:10μm(*小约5μm)
感光元件:CCD
光源規格:氘灯+卤素灯
电源規格:AC100V±10V750VA(自动样品台规格)
尺寸:555(W)×537(D)×568(H)mm(自动样品台规格之主体部分)
重量:约55kg(自动样品台规格之主体部分)
OPTM-A2
波長范围:360~1100nm
膜厚范围:7nm~49μm
测定时间:1秒/1点
光斑大小:10μm(*小约5μm)
感光元件:InGaAs
光源規格:卤素灯
电源規格:AC100V±10V750VA(自动样品台规格)
尺寸:555(W)×537(D)×568(H)mm(自动样品台规格之主体部分)
重量:约55kg(自动样品台规格之主体部分)
OPTM-A3
波長范围:900~1600nm
膜厚范围:16nm~92μm
测定时间:1秒/1点
光斑大小:10μm(*小约5μm)
感光元件:InGaAs
光源規格:卤素灯
电源規格:AC100V±10V750VA(自动样品台规格)
尺寸:555(W)×537(D)×568(H)mm(自动样品台规格之主体部分)
重量:约55kg(自动样品台规格之主体部分)
测量项目:绝对反射率测量多层膜解析光学常数分析(n:折射率,k:消光系数)
测量示例:SiO2SiN[FE-0002]的膜厚测量半导体晶体管通过控制电流的导通状态来发送信号,但为了防止电流泄漏和另一个晶体管的电流流过任意路径,有必要隔离晶体管,埋入绝缘膜。SiO2(二氧化硅)或SiN(氮化硅)可用于绝缘膜。SiO2用作绝缘膜,而SiN用作具有比SiO2更高的介电常数的绝缘膜,或是作为通过CMP去除SiO2的不必要的阻挡层。之后SiN也被去除。为了绝缘膜的性能和精确的工艺控制,有必要测量这些膜厚度。
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