德国 Sentech等离子沉积机SI 500 PPD
 

过程的灵活性

PECVD沉积工具SI 500 PPD的使用方便沉淀SiO2、SiNx、SiOxNy的标准工艺，a- si在室温到350℃之间。

真空loadlock SI 500 PPD的特点是真空加载锁定和干燥. 抽油机适用于无油、高产量和沉积过程的清洁度。
 

SENTECH控制软件

用户友好的强大软件包括模拟GUI、参数窗口、食谱编辑器、数据日志和用户管理。

SI 500 PPD是一种先进的等离子体增强化学气相沉积介质薄膜的工具，硅、碳化硅和其他材料。它是基于平面电容耦合等离子体源，真空加载锁定，

控温基片电极，可选配低频混频，全控无油真空系统采用先进的森泰克控制软件，采用远程现场总线技术，具有非常友好的通用用户界面用于操作SI 500 PPD的用户界面。

从直径200毫米的晶圆片到装载在载体上的各种基板，都可以在SI 500 PPD等离子体沉积仪。单片【真空负荷锁定】保证了稳定的工艺条件和可以方便地切换进程。

SI 500 PPD等离子体增强沉积工具被配置成在a中沉积SiO2、SiNx、SiONx和a- SI薄膜

温度范围从室温到350℃。解决方案可用于TEOS, SiC，以及其他具有液态或气态前体的物质。SI 500 PPD适用于介质的沉积用于蚀刻掩膜、薄膜、钝化膜、波导等的薄膜和非晶态硅。
 

SENTECH提供不同水平的自动化，从真空盒加载到一个过程室到六个端口集群，不同的沉积和蚀刻模块，以高灵活性或高吞吐量为目标。SI 500 PPD也可以作为集群配置上的进程模块。

PECVD SI 500 PPD

PECVD等离子体沉积工具与真空loadlock

高达200毫米晶圆

衬底温度从RT到350℃

低应力薄膜可选低频混频

TEOS和其他液体前驱体的来源

干式抽油机

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注：该产品未在中华人民共和国食品药品监督管理部门申请医疗器械注册和备案，不可用于临床诊断或治疗等相关用途