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参考报价: | 面议 | 型号: | Model 200,800MBA,2000,5000 |
品牌: | OAI | 产地: | 美国 |
关注度: | 16 | 信息完整度: | |
样本: | 典型用户: | 暂无 |
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美国 OAI 光刻机:
Model 200 手动曝光机,实验室用 ,
Model 800MBA 双面曝光机, 实验室及小批量生产,
Model 2000 全自动边缘曝光系统,生产型
Model 5000 全自动曝光机,生产型
OAI 200型光刻机是一种具有成本效益的高性能掩模对准器,采用经过行业验证的组件,使OAI成为光刻设备行业的领导者。 200型是台式面罩对准器,需要最小的洁净室空间。它为研发,或有限规模,试点生产提供了经济的替代方案。利用创新的空气轴承/真空吸盘调平系统,衬底快速平稳地平整,用于平行光掩模对准和在接触曝光期间在晶片上的均匀接触。该系统能够实现一微米分辨率和对准精度。
对准模块具有掩模插入件组和快速更换晶片卡盘,其便于使用各种衬底和掩模,而不需要用于重新配置的特殊工具。对准模块包括X,Y和Z轴的微米。
200型掩模对准器具有可靠的OAI紫外光源,其在近紫外或深紫外中提供准直的紫外光,使用功率从200至2000瓦的灯。双传感器,光学反馈回路连接到恒定强度控制器,以提供在所需强度的±2%内的曝光强度的控制。可以快速和容易地改变UV波长。该掩模Aligner是一种灵活,经济的解决方案,适用于任何入门级掩模对准和UV紫外光照射应用.
OAI在MEMS和微流体装置方面的产品主要包括 :
光源
以工作稳定,出光效率高,高均匀性和散射角小而著称。且可提供 20” 以上的大面积光源。
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注:该产品未在中华人民共和国食品药品监督管理部门申请医疗器械注册和备案,不可用于临床诊断或治疗等相关用途