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使用一次离子束(通常是Cs源)轰击样品表面产生二次离子,用质谱分析仪分析二次离子的质荷比(m/q),得知元素在样品中的深度分布
实现高精度测量的一次离子枪。三重离子束聚焦质量分析器,复杂形貌样品的高精度分析。自动多样品测试。
SEM分辨率≤ 3 nm, AES分辨率≤ 8 nm,为用户提供纳米尺度方面的各种分析需求
采用一束扫描、聚焦、单色化的Al X射线源以及一束扫描、聚焦、单色化Cr X射线源用于高空间分辨率的化学态分析和HAXPES*
设计独特,适用于多种有机物和聚合物材料表面(陶瓷/玻璃)低损伤的清洁和溅射深度剖析
配置了全新设计的能量分析器,能够实现从微区到大面积的高灵敏度分析。同时还具备高精度的角度接受器、独特的荷电中和技术以及多样化的选配方案等特性,能够提供极限深度分辨率
最新一代配置了全自动多功能扫描聚焦X 射线光电子能谱,易操作式多功能选配附件,能够实现全自动样品传送停放,同时还具备高性能大面积和微区XPS 分析
PHI Quantera II扫描XPS微探针是建基于业界荣获最多殊荣的Quantum 2000和Quantera SXM之上最新研发的XPS分析仪器,其革命性的技术包括:独创微聚焦X-ray源,可以得到世界最小至7.5μm的聚焦X-ray;专利的双束电荷中和...