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采用一束扫描、聚焦、单色化的Al X射线源以及一束扫描、聚焦、单色化Cr X射线源用于高空间分辨率的化学态分析和HAXPES*
设计独特，适用于多种有机物和聚合物材料表面（陶瓷/玻璃）低损伤的清洁和溅射深度剖析
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