磨抛机振动抛光机SAPHIR Vibro

SaphirVibro振动抛光机是为了制备无残余变形的表面而设计的。它是用于进一步材料表征的理想前序设备，比如EBSD（背散射电子衍射）、AFM（原子力显微镜）分析和纳米压痕或显微硬度测试。主要特点如下：
1) 可快速更换带磁性系统的抛光池
2) 自动频率控制，范围从60到120Hz
3) “Surface-Guard”功能降低试样磨料结晶和试样表面腐蚀的机率
4) 预先安装好的制备方案和耗材清单
5) 低工作噪音和吸振式结构设计
6) 软闭合式防护罩和排气接口
7) 可存储多达200个制备程序
振动抛光机技术参数：
- 抛光池内径：308mm
- 抛光布直径：300mm/305mm（12“）
- 接口：socket（根据配置不同）·USB·Ethernet
- 排气口径：Ø40mm
- 环境温度：10-40°C
- IP码：IP22
- 连接功率：0.25kVA
- 驱动功率：135VA
- 电源：220-240V 50/60Hz（1Ph/N/PE）100-120V 50/60Hz（1Ph/N/PE）
- 尺寸：宽x高x深510x300x590mm
- 重量（取决于设备）：≈45kg

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注：该产品未在中华人民共和国食品药品监督管理部门申请医疗器械注册和备案，不可用于临床诊断或治疗等相关用途