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利用 7700s/7900 ICP-MS 直接测量 20% 氢氧化铵中的金属杂质
发布时间：
2021-02-26 11:06
来源：
安捷伦科技（中国）有限公司
| 领域： | 电子/电器/半导体 | ||
| 样品： | 20% 氢氧化铵 | 项目： | 金属杂质 |
| 方案文件名 | 下载 |
|---|---|
利用 7700s/7900 ICP-MS 直接测量 20% 氢氧化铵中的金属杂质 |
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使用 Agilent 7700s ICP-MS 成功对 20% NH4OH 进行了直接分析。ICP-MS 的高速频率匹配 RF 发生器在吸取 20% NH4OH 后能产生稳定的等离子体，同时多干扰去除技术确保被测的所有 48 种元素均实现较低的 DL 和 BEC。将加标浓度限制在 100 ppt 可避免碱性基质形成沉淀，也证实了 MSA 可用于常规的直接测量。因此，在用 ICP-MS分析 20% 高纯度的 NH4OH 时，实验室不必去除基质，可以直接进行常规分析。
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