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当前位置： 安捷伦 应用文献 使用 ICP-OES 测定金属样品中的硅元素

使用 ICP-OES 测定金属样品中的硅元素

2022-07-01
文献描述 免费下载此文献
  • 地矿/钢铁/有色金属
  • 金属
  • 硅元素
  • GB223.5-2008,GB 5687.2-2007
相关产品清单
Agilent 5800 ICP-OES
Agilent 5800 ICP-OES
安捷伦
马来西亚
5800
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摘要

本文介绍了一种使用 ICP-OES 测定金属样品基体中，氢氟酸介质下硅元素的方法，采用了安捷伦无硅涂层的耐氢氟酸进样系统，克服了常规 ICP-OES 分析氢氟酸介质空白值高的缺点，获得了较低的空白值，适合于测定多种金属基体中不同含量范围的硅元素。

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