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安捷伦科技（中国）有限公司
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高纯钛 (Ti) 是半导体制造、航空航天工程等高科技产业领域的关键材料。在半导体应用中，Ti 被广泛用作薄膜沉积工艺的溅射靶材，即使痕量杂质也会对薄膜的均匀性、电性能以及器件可靠性产生不利影响。在航空航天领域，Ti 凭借高比强度、优异的耐腐蚀性，成为发动机部件和结构件的理想用材。但材料中的任何杂质都可能损害部件的机械完整性，降低其长期性能，尤其是在极端条件下运行时。
在本研究中，采用高纯钛粉配制 200 ppm 钛溶液，用以模拟先进材料分析领域中的典型样品。通过加标回收率实验和长期稳定性测试，评估了 9500 ICP-MS/MS 对高 Ti 基质中痕量杂质（包括 Na、Mg、Cu 和 Zn）的定量分析性能。
