等离子体低温灰化仪VP-RS20真空腔体不锈钢材质，功率500W，频率13.56MHz，能对材料起到清洁、刻蚀、活化、改性的作用，满功率运行3分钟，腔体温度不高于45℃，不损伤样品，适用于晶圆去胶、煤灰化、碳毯（CF）、微流控芯片PDMS键合、ITO导电玻璃、石墨烯、纤维、单晶硅片、PET、二氧化硅等几乎所有材料的处理。

等离子清洗机VP-R3真空腔体石英材质，射频频率13.56MHz，功率160W，能对材料起到清洁、刻蚀、活化、改性的作用，满功率运行30分钟，腔体温度不高于32℃，不损伤样品，适用于微流控芯片PDMS键合、ITO导电玻璃、石墨烯、纤维、单晶硅片、PET、二氧化硅等几乎所有材料的PLASMA处理。

手套箱专用等离子清洗机VP-R3分体式既保留了VP-R3自动化操作的便利及PLASMA处理效果，又实现把真空腔体分离，便于放入手套箱的狭小空间，解决了材料的放置、处理、取出均在无氧无水、零污染的手套箱内完成工艺，从而实现PLASMA等离子处理更精细化的实验要求。

善准科技手套箱专用真空等离子处理仪VP-R3分体式保留了VP-R3自动化操作的便利及PLASMA处理效果，又实现把真空腔体分离，便于放入手套箱的狭小空间，解决了材料的放置、处理、取出均在无氧无水、零污染的手套箱内完成工艺，从而实现PLASMA等离子处理更精细化的实验要求。

善准科技转瓶等离子清洗机VP-T3解决了微小颗粒特别是粉末样品PLASMA处理不完全，不均匀的痛点，真空腔体在等离子处理过程中滚动旋转，从而带动粉末样品在真空环境下翻滚，从而确保的样品得到完全、均匀的等离子处理。

善准科技旋转型真空等离子处理仪VP-T3解决了微小颗粒特别是粉末样品PLASMA处理不完全，不均匀的痛点，真空腔体在等离子处理过程中滚动旋转，从而带动粉末样品在真空环境下翻滚，从而确保的样品得到完全、均匀的等离子处理。

善准科技PLASMA等离子清洗机VP-R5频率13.56MHz，能对材料起到清洁、刻蚀、活化、改性的作用，满功率运行30分钟，腔体温度不高于32℃，不损伤样品，适用于微流控芯片PDMS键合、ITO导电玻璃、石墨烯、纤维、单晶硅片、PET、二氧化硅等几乎所有材料的PLASMA处理。

广州善准等离子低温灰化仪VP-RS20，腔体不锈钢材质，功率500W，频率13.56MHz，能对材料起到清洁、刻蚀、活化、改性的作用，满功率运行3分钟，腔体温度不高于45℃，适用于晶圆去胶、煤灰化、碳毯（CF）、微流控芯片PDMS键合、单晶硅片、二氧化硅等几乎所有材料的PLASMA处理。

善准科技等离子体表面处理仪VP-R10频率13.56MHz，能对材料起到清洁、刻蚀、活化、改性的作用，满功率运行30分钟，腔体温度不高于32℃，不损伤样品，适用于微流控芯片PDMS键合、ITO导电玻璃、石墨烯、纤维、单晶硅片、PET、二氧化硅等几乎所有材料的PLASMA处理。

善准科技等离子刻蚀机VP-RS15频率13.56MHz，能对材料起到清洁、刻蚀、活化、改性的作用，腔体不锈钢，功率500W，满功率运行3分钟，腔体温度不高于45℃，适用于晶圆去胶、煤灰化、碳毯（CF）、微流控芯片PDMS键合、单晶硅片、二氧化硅等几乎所有材料的PLASMA处理。

善准科技等离子去胶机VP-RS6频率13.56MHz，能对材料起到清洁、刻蚀、活化、改性的作用，腔体不锈钢，功率500W，满功率运行3分钟，腔体温度不高于45℃，适用于晶圆去胶、煤灰化、碳毯（CF）、微流控芯片PDMS键合、单晶硅片、二氧化硅等几乎所有材料的PLASMA处理。

善准科技等离子清洗机VP-RS15频率13.56MHz，能对材料起到清洁、刻蚀、活化、改性的作用，腔体不锈钢，功率500W，满功率运行3分钟，腔体温度不高于45℃，适用于晶圆去胶、煤灰化、碳毯（CF）、微流控芯片PDMS键合、单晶硅片、二氧化硅等几乎所有材料的PLASMA处理。

善准科技等离子体清洗机VP-R3频率13.56MHz，能对材料起到清洁、刻蚀、活化、改性的作用，满功率运行30分钟，腔体温度不高于32℃，不损伤样品，适用于微流控芯片PDMS键合、ITO导电玻璃、石墨烯、纤维、单晶硅片、PET、二氧化硅等几乎所有材料的PLASMA处理。