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产品简介脉冲电子束沉积(Pulsed Electron Deposition)系统具有以下特点:能够发射高能脉冲(100ns)电子束(约1000A, 15keV......
产品简介脉冲电子束沉积(Pulsed Electron Deposition)系统能够发射高能脉冲(100纳秒)电子束(约1000A, 15千电子伏)在靶材上穿......
产品简介脉冲电子束沉积(Pulsed Electron Deposition)系统具有以下特点:- 发射高能脉冲(100ns)电子束(约1000A,15keV)......
产品简介脉冲电子束沉积(Pulsed Electron Deposition)系统能发射高能脉冲(100ns) 电子束( 约1000 A,15 keV) 在靶材......
产品简介Pioneer120 PLD System是基础型独立PLD系统,用于制备高质量的外延薄膜、多层异质结、超晶格等。该PLD系统与Pioneer 120 ......
产品简介Pioneer 180 PLD系统是一款用于在各种衬底上制备多种材料的高质量外延薄膜、多层异质结构和超晶格的交钥匙PLD系统。该PLD系统与 Pione......
产品简介激光 MBE 是普遍采用的术语,该法是一种纳米尺度薄膜合成的理想方法,高真空下的 PLD 与在线工艺监测的反射高能电 子衍射(RHEED)的联合应用,用......
产品简介Neocera大尺寸PLD系统用于在各种衬底上沉积各种高质量的薄膜,晶圆(wafer)直径可达8 "(200毫米)。基片旋转结合激光扫描提供整......
特点独立的交钥匙离子束辅助PLD系统。在非晶和多晶衬底上沉积双轴织构模板。外延薄膜、多层异质结构和超晶格的沉积。用RHEED诊断法沉积织构MgO薄膜。氧化膜沉积......
特点独立交钥匙PLD系统PLD-CCS 三元连续组分扩散无退火和掩模在“真正的”沉积条件下(比如800℃,500mTorr)薄膜成长Wafer尺寸:标准型直径2......
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