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原子层沉积系统/薄膜沉积系统/压痕仪/划痕仪/生物大分子相互作用
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热法原子层沉积系统
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设备规格衬底尺寸:标准尺寸:200mm Dia (8 inch)(可定制)工艺温度:温度范围:RT~500°C (可定制)前驱体路数:最大支持6路前驱体气路(可定制),包含固、液态前驱体源瓶加热系统:可加热温度范围:RT~150℃反应物路数:支持2路反应物气路(可定制)载气:标准:N2, MFC 流......
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等离子增强原子层沉积系统
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设备规格衬底尺寸:标准尺寸:200mm Dia (8 inch)(可定制)工艺温度:温度范围:RT~500°C (可定制)前驱体路数:最大支持6路前驱体气路(可定制),包含固、液态前驱体源瓶加热系统:可加热温度范围:RT~150℃反应物路数:支持2路反应物气路(可定制)载气:标准:N2, MFC 流......
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手套箱集成原子层沉积系统
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设备规格衬底尺寸:标准尺寸:200mm Dia (8 inch)(可定制)工艺温度:温度范围:RT~500°C (可定制)前驱体路数:最大支持6路前驱体气路(可定制),包含固、液态前驱体源瓶加热系统:可加热温度范围:RT~150℃反应物路数:支持2路反应物气路(可定制)载气:标准:N2, MFC 流......
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粉体包裹原子层沉积系统
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设备规格可处理样品量:克级工艺温度:温度范围:RT~450°C前驱体路数:最大支持4路前驱体气路(可定制),包含固、液态前驱体源瓶加热系统:可加热温度范围:RT~150℃反应物路数:支持2路反应物气路(可定制)载气:标准:N2, MFC 流量控制(可定制)压力监测:三薄膜规组合(耐腐蚀),0.005......
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大尺寸原子层沉积系统
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设备规格衬底尺寸:标准尺寸:300mm Dia (12 inch)(可定制)工艺温度:温度范围:RT~500°C 精度:土1°C(可定制)前驱体路数:最大支持6路前驱体气路(可定制),包含固、液态前驱体源瓶加热系统:可加热温度范围:RT~150℃反应物路数:支持2路反应物气路(可定制)载气:标准:N......
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超高真空集成原子层沉积系统 UHV ALD
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设备规格衬底尺寸:标准尺寸:100mm Dia (4 inch)(可定制)工艺温度:温度范围:RT~400°C 精度:土1°C(可定制)前驱体路数:最大支持6路前驱体气路(可定制),包含固、液态前驱体源瓶加热系统:可加热温度范围:RT~150℃反应物路数:支持2路反应物气路(可定制)载气:标准:N2......
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纳米等离子体传感分析仪 S2
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产品信息Insplorion S2 采用双通道流通池,用于无标记和原位研究分子间相互作用和表面吸附事件。 此系统在表面/样品界面几十纳米范围内实现了真正的纳米级测量,并完美地控制样品和缓冲液的流动。 1、集成和自动化的流体处理具有软件命令队列、6通注射阀和不间断流量注射泵的自动流量操作,并......
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脉冲激光沉积系统 Pioneer 180 MAPLE PLD
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产品简介基质辅助脉冲激光蒸发(MAPLE)是PLD的一种变体。这是由NRL集团新引入的技术,以促进某些功能有机材料的薄膜沉积。基于UV (5-6 eV)的传统PLD技术中,光化学反应可能会恶化有机分子、聚合物等的功能。而在MAPLE中,通过将待沉积的有机物(或聚合物)与吸收激光波长的溶剂(基质)混合......
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脉冲电子束沉积系统 Pioneer 180 PED System
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产品简介脉冲电子束沉积(Pulsed Electron Deposition)系统能发射高能脉冲(100ns) 电子束( 约1000 A,15 keV) 在靶材上穿透将近1 um,使靶材快速蒸发形成等离子体。在靶材上的非平衡提取(烧灼)能使等离子体的组成与靶材的化学计量组成一致。在最佳条件下,靶材的......
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纳米力学测试系统/纳米压痕仪 NanoTest Xtreme
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NanoTest Xtreme让您可以在真空中进行纳米力学测试为越可靠和更准确地预测性能,研究人员研究人员越来越要求测试条件接近真实环境。凭借纳米技术的优势,微材料能提供最全面的纳米机械测试选项。NanoTest Xtreme的性能因此得到增强,能提供-100℃到1000℃的真空环境下测试样品,并且......
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离子辅助脉冲激光沉积系统 Ion-Assisted PLD System
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特点独立的交钥匙离子束辅助PLD系统。在非晶和多晶衬底上沉积双轴织构模板。外延薄膜、多层异质结构和超晶格的沉积。用RHEED诊断法沉积织构MgO薄膜。氧化膜沉积的氧相容性。通过优化PLD薄膜沉积速率和离子刻蚀速率,新瓷离子辅助PLD系统被用于在非晶或多晶基底上创建双轴织构模板(薄膜)。双轴织构通常是......
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大尺寸脉冲激光沉积系统 Large-Area PLD Systems
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产品简介Neocera大尺寸PLD系统用于在各种衬底上沉积各种高质量的薄膜,晶圆(wafer)直径可达8 "(200毫米)。基片旋转结合激光扫描提供整个晶圆区域的厚度均匀性。激光束扫描附件采用了独特的Neocera设计,当激光束扫描时,可以在目标上产生固定的激光通量(J/cm2)。当激光束......
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脉冲激光沉积系统180 Laser MBE/PLD
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产品简介激光 MBE 是普遍采用的术语,该法是一种纳米尺度薄膜合成的理想方法,高真空下的 PLD 与在线工艺监测的反射高能电 子衍射(RHEED)的联合应用,用户提供了类似于 MBE 的薄膜生长的单分子水平控制。 正确的设计是成功使用 RHEED 和 PLD 的重要因数 RHEED 通常在高真空(&......
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脉冲激光沉积系统Pioneer 180 PLD System
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产品简介Pioneer 180 PLD系统是一款用于在各种衬底上制备多种材料的高质量外延薄膜、多层异质结构和超晶格的交钥匙PLD系统。该PLD系统与 Pioneer 120 Advanced PLD System系统的主要区别在于,具有更大的沉积模块,有助于 Pioneer 120 Advanced......
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脉冲激光沉积系统Pioneer 120 PLD System
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产品简介Pioneer120 PLD System是基础型独立PLD系统,用于制备高质量的外延薄膜、多层异质结、超晶格等。该PLD系统与Pioneer 120 Advanced系统和Pioneer 180 PLD系统的主要区别是衬底加热阶段。Pioneer 120 Advanced系统使用导电加热阶......
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纳米等离子体传感分析仪 Insplorion XNano
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产品信息Insplorion XNano具有一个灵活的测量单元,能够在气体和液体流量测量中实时测量折射率变化。简而言之,整个Insplorion XNano系统提供以下功能:a、传感器表面折射率变化的超灵敏测量b、在液体或气体环境中测量c、使用集成温度控制,温度范围室温至80 Cd、灵活选择样品材料......
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阴极荧光 CL-SEM系统 Monch STEMs光收集和光注入系统
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产品信息受益于包括光收集或注入模式的多功能系统。揭示样品的前所未有的特征:成分、 结构或缺陷。充分利用具有大收集角度的优化系统。 激发样品以揭示光/热激发下的局部行为。产品优点如下:a、独立于样品架的镜子,可实现完美和优化的对准b、绝对编码系统,确保高对准精度和再现性(100nm精度)c、能够在自由......
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纳米力学测试系统/纳米压痕仪 NanoTest Vantage
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NanoTest Vantage系统是一个灵活和用户友好的仪器,能提供完整的纳米机械和纳米摩擦学测试。只需一个测试平台,就可以研究各种机械性能,从而集成出材料性能的完整画面。它可进行纳米压痕(准静态和动态)、纳米冲击、疲劳纳米划痕和磨损纳米微动。材料的性能会随着局部环境特性的变化而发生很大的变化。纳......
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高级脉冲激光沉积系统 Pioneer 120 Advanced PLD System
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产品简介Pioneer 120 Advanced PLD System 是一个用于制备高质量的外延薄膜独立的系统、多层异质结构和各种材料的超晶格。这个PLD系统和the Pioneer 120 PLD System 的主要区别是衬底加热阶段。先锋120采用导电加热阶段,而Pioneer 120 Ad......
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组合型脉冲激光沉积系统 Combinatorial PLD System
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特点独立交钥匙PLD系统PLD-CCS 三元连续组分扩散无退火和掩模在“真正的”沉积条件下(比如800℃,500mTorr)薄膜成长Wafer尺寸:标准型直径2”(4” 和6”需客户定制)外延薄膜、多层异质结构和超晶格的沉积高温下氧化膜沉积的氧兼容性沉积过程中生产多种不同材料成分的能力大大加快了达到......
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