Pioneer 120 Advanced PLD System特点

独立的交钥匙PLD系统。 

外延薄膜、多层异质结构和超晶格的沉积。

利用原位RHEED诊断技术沉积纳米级薄膜。

氧化膜沉积的氧相容性。

升级:负载锁定，激光加热器，RF/DC溅射，组合PLD

与超高真空溅踱系统集成。

与XPS /ARPES超高真空集群工具集成。

技术指标

衬底尺寸：10mm x10mm到直径2英寸

沉积室：直径12英寸

衬底温度：最高850°C，辐射加热器，氧兼容

多目标传送带：6 × 1英寸或3 × 2英寸

质量流量控制器(s)：一个MFC氧气是标准的，更多的MFC是可选的

软件控制：Windows 7, Labview 2013

升级：RHEED, RF-DC溅射/ DC离子源，LAXS, IES，激光加热器

Pioneer 120 Advanced PLD System 是一个用于制备高质量的外延薄膜独立的系统、多层异质结构和各种材料的超晶格。这个PLD系统和the Pioneer 120 PLD System 的主要区别是衬底加热阶段。Pioneer 120采用导电加热阶段，而Pioneer 120 Advanced PLD System 采用辐射加热阶段。加热器可兼容1大气压(760 torr)的氧气，这是一特性用于制备外延氧化膜，需要(i)沉积在氧气中，(ii)沉积后退火在氧气中，以及在接近1大气压的氧气中冷却。由于基底不与加热器直接连接，可以连续旋转360度。衬底也可以负载锁定。

这个脉冲激光沉积系统包括一个自动多目标转盘，带有目标旋转、目标光栅和软件控制的多层和超晶格沉积所需的目标选择。闭环压力控制提供了使用质量流量控制器的精确过程压力控制。干式泵是由机械隔膜泵或涡旋泵支持的涡轮分子泵组合而成。该系统软件(Windows 7, LabView 2013) 控制基材加热器、目标转盘、过程压力、系统泵和激光触发。由于衬底可以转移，可进行多种选择。这些包括但不限于将PLD系统与各种其他沉积平台(如超高真空溅踱系统)集成，也与超高真空分析系统(如XPS/ARPES等)集成。

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注：该产品未在中华人民共和国食品药品监督管理部门申请医疗器械注册和备案，不可用于临床诊断或治疗等相关用途