设备规格衬底尺寸:标准尺寸:200mm Dia (8 inch)(可定制)工艺温度:温度范围:RT~500°C (可定制)前驱体路数:最大支持6路前驱体气路(可......
设备规格衬底尺寸:标准尺寸:200mm Dia (8 inch)(可定制)工艺温度:温度范围:RT~500°C (可定制)前驱体路数:最大支持6路前驱体气路(可......
设备规格衬底尺寸:标准尺寸:200mm Dia (8 inch)(可定制)工艺温度:温度范围:RT~500°C (可定制)前驱体路数:最大支持6路前驱体气路(可......
设备规格可处理样品量:克级工艺温度:温度范围:RT~450°C前驱体路数:最大支持4路前驱体气路(可定制),包含固、液态前驱体源瓶加热系统:可加热温度范围:RT......
设备规格衬底尺寸:标准尺寸:300mm Dia (12 inch)(可定制)工艺温度:温度范围:RT~500°C 精度:土1°C(可定制)前驱体路数:最大支持6......
设备规格衬底尺寸:标准尺寸:100mm Dia (4 inch)(可定制)工艺温度:温度范围:RT~400°C 精度:土1°C(可定制)前驱体路数:最大支持6路......
产品简介基质辅助脉冲激光蒸发(MAPLE)是PLD的一种变体。这是由NRL集团新引入的技术,以促进某些功能有机材料的薄膜沉积。基于UV (5-6 eV)的传统P......
产品简介脉冲电子束沉积(Pulsed Electron Deposition)系统能发射高能脉冲(100ns) 电子束( 约1000 A,15 keV) 在靶材......
NanoTest Xtreme让您可以在真空中进行纳米力学测试为越可靠和更准确地预测性能,研究人员研究人员越来越要求测试条件接近真实环境。凭借纳米技术的优势,微......
特点独立的交钥匙离子束辅助PLD系统。在非晶和多晶衬底上沉积双轴织构模板。外延薄膜、多层异质结构和超晶格的沉积。用RHEED诊断法沉积织构MgO薄膜。氧化膜沉积......
产品简介Neocera大尺寸PLD系统用于在各种衬底上沉积各种高质量的薄膜,晶圆(wafer)直径可达8 "(200毫米)。基片旋转结合激光扫描提供整......
产品简介激光 MBE 是普遍采用的术语,该法是一种纳米尺度薄膜合成的理想方法,高真空下的 PLD 与在线工艺监测的反射高能电 子衍射(RHEED)的联合应用,用......
产品简介Pioneer 180 PLD系统是一款用于在各种衬底上制备多种材料的高质量外延薄膜、多层异质结构和超晶格的交钥匙PLD系统。该PLD系统与 Pione......
产品简介Pioneer120 PLD System是基础型独立PLD系统,用于制备高质量的外延薄膜、多层异质结、超晶格等。该PLD系统与Pioneer 120 ......
NanoTest Vantage系统是一个灵活和用户友好的仪器,能提供完整的纳米机械和纳米摩擦学测试。只需一个测试平台,就可以研究各种机械性能,从而集成出材料性......
产品简介Pioneer 120 Advanced PLD System 是一个用于制备高质量的外延薄膜独立的系统、多层异质结构和各种材料的超晶格。这个PLD系统......
特点独立交钥匙PLD系统PLD-CCS 三元连续组分扩散无退火和掩模在“真正的”沉积条件下(比如800℃,500mTorr)薄膜成长Wafer尺寸:标准型直径2......