特色

独立的交钥匙PLD系统。

外延薄膜、多层异质结构和超晶格的沉积。

纳米级薄膜的沉积。

外延氧化膜沉积的可编程氧兼容加热器。

自动多目标旋转多层沉积。

全干式真空泵组。

通过系统软件进行闭环压力控制。

Pioneer 120 PLD System是基础型独立PLD系统，用于制备高质量的外延薄膜、多层异质结、超晶格等。该PLD系统与Pioneer 120 Advanced系统和Pioneer 180 PLD系统的主要区别是衬底加热阶段。Pioneer 120 Advanced系统使用导电加热阶段用于衬底加热， 其他模型使用辐射加热阶段。为了达到950°c的额定高温，基板必须与加热板紧密接触，用银浆提供加热板和基板之间的紧密接触(当需要这些高温时)。在不需要银浆的情况下，还提供衬底夹来固定衬底。在这些情况下,最高衬底温度可能低于额定950°c。加热器是氧兼容的，能达到1大气(760托)的氧, 这个特性有助于制备外延氧化薄膜：可能需要在氧气环境后沉积和氧气压力接近1 atmosphere后退火冷却。Pioneer 120 PLD系统包括一个自动多目标转，具有目标旋转、目标光栅和软件控制的多层和超晶格沉积所需的目标选择。闭环压力控制提供了使用质量流量控制器的精确过程压力控制。干式泵是由机械隔膜泵或涡旋泵支持的涡轮分子泵组合而成。该系统软件(Windows 7, LabView 2013)控制基材加热器，目标转，过程压力，系统泵和激光触发。

沉积室

8”CF泵口。8”CF衬底加热器端口。8“CF的目标

旋转端口

可编程导电衬底加热器

加热器最高温度:950℃。

最大加热器尺寸:直径2英寸(其他尺寸为定制)。

抽真空包组

全干真空泵。涡轮分子泵支持隔膜或涡旋泵。

PLD系统软件

Windows 7, LabVIEW 2013

控制衬底加热阶段。

控制目标旋转阶段。

PLD光学组件(KrF准分子激光器)

用于248nm的45°激光镜。

248nm平面凸透镜。

焦距约为50厘米。

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注：该产品未在中华人民共和国食品药品监督管理部门申请医疗器械注册和备案，不可用于临床诊断或治疗等相关用途