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当前位置: 艾飞拓 二次离子质谱 TOF-SIMS M6 Plus飞行时间二次离子质谱-原位SPM
TOF-SIMS M6 Plus飞行时间二次离子质谱-原位SPM
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TOF-SIMS M6 Plus飞行时间二次离子质谱-原位SPM

参考报价:面议 品牌:IONTOF 产地:德国 型号:TOF-SIMS M6 Plus 样本:来电或留言获取样本
AI问答
  • 可以做哪些实验,检测什么? 可以用哪些耗材和试剂?
  • 多少钱一台? 参数细节是什么?
  • 使用的注意事项? 操作规程?
参数规格
产地类别:进口 供应商性质:总代理 仪器种类:飞行时间
质量分辨率:26000 质量分析范围:1-12000u 原始束流或速能量:0-30kV
产品卖点

将 M6 的高端性能与执行原位 SPM 测量的可能性相结合。大面积 SPM 单元的扫描范围高达 80 x 80 x 10 μm3,非常适合为真正的 3D SIMS 测量提供形貌信息。

产品介绍

纳米表征的工具

有关纳米尺度的材料和器件的化学成分、物理性质和三维结构的信息对于纳米科学和纳米技术的新发展至关重要。在3D SIMS测量中,样品表面的初始形貌以及实验过程中的形貌变化不容易识别。扫描探针显微镜 (SPM) 提供有关表面形貌的补充信息,也可用于测量分析样品的物理特性。

通过这两种技术的结合,真正的原位三维化学成像成为可能。M6 Plus 平台将 M6 的高端性能与执行原位 SPM 测量的可能性相结合。大面积 SPM 单元的扫描范围高达 80 x 80 x 10 μm3,非常适合为真正的 3D SIMS 测量提供形貌信息。

1 用于纳米表征的强大工具

2 所有标准 SPM 模式,例如 AFM、KPFM、多频

3 SPM 扫描范围大:80 x 80 x 10 μm3

4 独特的表面轮廓仪模式,用于大型SIMS溅射坑测量

5 与所有 M6 选件完全兼容


千分尺位置精度

M6 Plus的压电样品台具有亚微米级位置精度,可确保TOF-SIMS和SPM测量位置之间快速精确地移动。
该载物台具有 10 nm 的编码器分辨率和高达 10 mm/s 的移动速度,保证了高水平的精度和稳定性。

真正的 3D 化学成像

下面的示例显示了硅基质内部锗结构的三维分析。该结构具有很强的初始表面形貌,如果单独使用TOF-SIMS数据,则会导致化学成分的表示不正确。通过将TOF-SIMS的化学信息与SPM的尺寸信息相结合,可以生成真实的三维化学图像。



无需形貌校正的 3D 叠加:SiN(红色)、Ge(橙色)、SiO2(黄色)和 Si(绿色)。视场:25 x 25 μm2



具有形貌校正的 3D 叠加:SiN(红色)、Ge(橙色)、SiO2(黄色)和 Si(绿色)。视场:25 x 25 μm2

表面轮廓仪模式

M6 Plus 的 SPM 模块还允许对大型溅射坑进行详细分析。在所谓的表面轮廓仪模式下,多个 SPM 扫描被拼接在一起以测量长 SPM 线扫描。这种独特的SPM模式对于精确确定溅射坑的深度或在纳米尺度上测量坑的粗糙度非常有价值。

该示例显示了硅中 1.1 μm 深的溅射坑的 SPM 表面轮廓扫描。线扫描由多个单独的 SPM 扫描组成。整个扫描的记录时间不到 3 分钟,显示陨石坑外部的表面粗糙度为 0.7 nm (RMS),陨石坑内部的表面粗糙度为 10.3 nm (RMS)。


TOF-SIMS M6 Plus飞行时间二次离子质谱-原位SPM 由北京艾飞拓科技有限公司为您提供,如您想了解更多关于TOF-SIMS M6 Plus飞行时间二次离子质谱-原位SPM 报价、型号、参数等信息,欢迎来电或留言咨询。

注:该产品未在中华人民共和国食品药品监督管理部门申请医疗器械注册和备案,不可用于临床诊断或治疗等相关用途。

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