Hiden HPR30过程气体分析质谱仪

HPR-30真空过程气体分析系统(Process Gas Analyser)，适用于监测分析残余气体和真空工艺过程中的气体组成及变化。

应用：
   · CVD / PECVD / RIE / LPCVD / MOCVD
   · 真空涂覆/ 等离子刻蚀
   · 沉积溅射
   · 污染物研究
   · 基本压力辨别
   · 泄漏探测/ 实质泄漏/脱附分析
   · 除气/烘烤/泵效能
   · 反应室/过程气体污染物

特点：

·简洁的桌上型，移动推车或控制台架结构
·Direct re-entrant流孔板，差式泵，以达到最适宜的灵敏度

· 连续取样从10^-4mbar至1mbar.

· 高灵敏度（最优可至5ppb），质量数可选至1000amu

·软离子化技术，分析复杂有机物，或表观MS研究

· 稳定性好(24h之上，峰高变化小于±0.5%)

·MASsoft软件控制，或由局域网进行多个系统控制
·气动阀自动控制；出现电力不足或压力过大等不安全状况时可启用手动隔离装置
·自动、同时数据取得、分析，实时显示、报警

参数

·质量数范围：   1～200 amu(标准配置); 300、510、1000amu可选

·高灵敏度：     5ppb

·取样压力：     10^-4mbar～1mbar 标准配置，1Number~30Bar选配

·稳定性好：     24h以上，小于峰高的±0.5%

·过程控制开关

·信号输入、输出接口

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注：该产品未在中华人民共和国食品药品监督管理部门申请医疗器械注册和备案，不可用于临床诊断或治疗等相关用途