技术参数：

QMS 403/5 SKIMMER - 技术参数

温度范围：
- SiC 炉：RT...1450°C, Skimmer Orifice 材质为氧化铝
- 石墨炉：RT...2000°C, Skimmer Orifice 材质为玻璃碳
升温速率：标准炉体：0.001 ... 约 100 K/min
天平量程：15000 mg
传感器类型：DSC, DTA, TG, DSC-cp, 方便快速更换
提供手套箱扩展附件（选件）
提供耐腐蚀版本（选件）
提供不同材质与不同尺寸规格的坩埚
QMS 可选的不同的质量范围：
- 1 ... 512 u
- 1 ... 1024 u
解析度：0.5 u
测量模式 / 扫描速率：
- 模拟扫描
- 柱状图扫描
- 多离子检测（MID）
检测器：90°SEV，检测限 > 10-14 mbar，或 > 100 ppb
Skimmer 温度：样品温度
Skimmer 材料：
- 氧化铝（1450°C）
- 玻璃碳（2000°C）
离子化：电子碰撞
u* = unified mass unit