牛津仪器OPAL原子层沉积系统(ALD)
tel: 400-6699-117 转 2002牛津仪器原子层沉积(ALD), 紧凑型开放式样品载入原子层沉积(ALD)系统 OpAL提供了独一无二的热ALD设备,可以简单明了的升级使用等离子体,使......
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产品型号:OPAL
品牌:牛津仪器
产品产地:英国
产品类型:进口
原制造商:牛津仪器
状态:在售
厂商指导价格: 10~30万元[人民币]
上市时间: 2011年
英文名称:OPAL
优点:紧凑型开放式样品载入原子层沉积(ALD)系统 OpAL提供了独一无二的热ALD设备,可以简单明了的升级使用等离子体,使得在同一紧凑设备中集成了等离子体和热ALD。 开放式样品载入热ALD,集成等离子体技术 现场升级到可使用等离子体 从小晶片到200mm大晶片 适用于学术、产业、研发的热和/或等离子体化学产品,可用于: 氧化物: HfO2, Al2O3, TiO2, SiO2, ZnO, Ta2O5 氮化物:TiN, Si3N4 金属: Ru, Pt
参考成交价格: 10~30万元[人民币]
原子层沉积(ALD)
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