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薄膜沉积制备系统 芬兰PICOSUN™ R200系列

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Picosun原子层沉积系统(ALD), 名称:原子层沉积系统(薄膜沉积制备系统) 品牌:PICOSUN 产地:芬兰 型号:PICOSUN™ R200系列

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PICOSUN™ R200系列设备提供高质量ALD薄膜的沉积技术,并在各种各样的衬底上都表现极佳的均匀性,包括zei具挑战性的通孔的、超高深宽比和颗粒等样品。我们为液体、气体和固体化学物提供的更高级的,易更换的前驱源系统,能够在晶圆、3D样品和各种纳米特性的样品上生长颗粒度zei小的薄膜层。在zei基本的PICOSUN™ R系列配置中可以选择多个独立的,完全分离的源入口匹配多种类型的前驱源。PICOSUN™ R系列独特的扩展性使ALD工艺可以从研究环境直接过渡到生产环境的PICOSUN™ P系列ALD系统。由于研发型与生产型PICOSUN™反应腔室核心设计特点都是相同的,这消除了实验室与制造车间之间的鸿沟。对大学来说,突破创新的技术转化到生产中,就会吸引到企业投资。

客户使用PICOSUN™ R系列ALD 设备在150mm和200mm(6“和8”)晶圆上所沉积薄膜厚度均匀性数据。

材料
非均匀性(1σ)
AI2O3 (batch)
0.13 %
SiO2 (batch)
0.77 %
TiO2
0.28 %
HfO2
0.47 %
ZnO
0.94 %
Ta2O5
1.0 %
TiN
1.10 %
CeO2
1.52 %
Pt
3.41 %


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