ULTRA 结构分析用场发射扫描电子显微镜

产品型号：ULTRA

品牌：蔡司

产品产地：德国

产品类型：进口

原制造商：蔡司

状态：在售

厂商指导价格： 300~400万元[人民币]

上市时间： 2011年

英文名称：ULTRA electron microscope

优点：仪器简介： 在SUPRA™场发射扫描电子显微镜基础上发展起来的ULTRA 场发射扫描电子显微镜是用于纳米结构分析的电子束成像仪器中的佼佼者，它接收效率高、可以超高分辨率成像。zei新开发的能量选择式背散射电子探测器（EsB）和角度选择式背散射电子探测器（AsB）则代表了著名的GEMINI®技术的zei新发展。 ULTRA综合采用了用于形貌成像的GEMINI® In-len二次电子探测器、用于清晰的组分衬度的EsB探测器和用于采集晶体通道信息的AsB探测器。同步的实时成像与信号混合功能提供了zei佳的成像能力。 EsB探测器包含有一个过滤栅网，通过它可实现高分辨率背散射电子成像，让以前无法看见的细节历历在目。 卡尔.蔡司独特的荷电补偿功能在使用所有探测器时，都可以分析非导电样品  低加速电压时的超高分辨率二次电子和背散射电子成像  用于在纳米尺度上实现组分衬度成像的高效EsB / AsB探测器  精确控制的超大自动优中心（eucentric）样品台  背散射电子和二次电子信号的实时成像与混合功能  抑制不导电样品的荷电效应  用于X射线分析和背散射电子衍射（EBSD）应用的超稳定束流模式