【技术特点】-- TEM用氮化硅薄膜窗口 上海昭沅

氮化硅薄膜窗口特点

1. 低应力的8, 15 , 50nm厚的氮化硅支撑膜：50nm厚的薄膜具有zei大的视野范围；8nm和15nm厚的无孔氮化硅薄膜适用于TEM超高分辨率的应用

2.  氮化硅支撑膜：低应力的LPCVD非化学计量比氮化硅薄膜，良好的平整度、绝缘性和疏水性

3.  良好的化学稳定性：图像分辨率和机械强度达到理想的平衡；

4. 均匀性：减少了不同区域的不均匀性；

5. TEM断面成像应用的特殊窗口：适用于倾斜断层成像的0.5x1.5mm大窗口，倾斜度zei大可达75°

6. 多窗口系列：2窗口，0.1x1.5mm；3x3系列，0.1x0.1mm

7. 可应用于多种显微技术：良好的机械稳定性使得同一种薄膜可应用于TEM, SEM, EDX, XPS and AFM 。

8. 薄膜和基底耐酸，不会被溶解：可以在酸性条件或常规条件下研究、制备样本

9. 可应用于高温试验环境： >1000° C

10. 可提供更对精确的分析，如样品中的碳含量，减少污染：可用于无碳环境中的TEM成像和分析

11. 容易清洗：机械稳定性和化学稳定性使得薄膜很容易采用辉光放电或等离子清洗，无有机物残留，改善成像质量；

12. 良好的平整度：良好的纳米沉积基底和薄膜，无背景结构适合于SEM成像

13. 超净加工，防止支撑膜上残留微粒：100级的超净间内包装

14. 框架厚度：200 and 50μm ：200μm是标准的TEM支撑架；50μm是特殊的TEM支撑架

  标准框架直径为3mm

  同一批次的氮化硅薄膜窗具有相同的特性

【技术特点对用户带来的好处】-- TEM用氮化硅薄膜窗口 上海昭沅

【典型应用举例】-- TEM用氮化硅薄膜窗口 上海昭沅