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SWC-3000 (D) 兆声辅助光刻胶剥离系统

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那诺-马斯特洗瓶机、清洗机, 兆声去胶技术

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技术特点

【技术特点】-- SWC-3000 (D) 兆声辅助光刻胶剥离系统

SWC-3000 (D)兆声辅助光刻胶剥离系统应用:

  • 带图案或不带图案的掩模版和晶圆片

  • Ge, GaAs以及InP晶圆片清洗

  • CMP处理后的晶圆片清洗

  • 晶圆框架上的切粒芯片清洗

  • 等离子刻蚀或光刻胶剥离后的清洗

  • 带保护膜的分划版清洗

  • 掩模版空白部位或接触部位清洗

  • X射线及极紫外掩模版清洗

  • 光学镜头清洗

  • ITO涂覆的显示面板清洗

  • 兆声辅助的剥离工艺

SWC-3000 (D)兆声辅助光刻胶剥离系统的特点:

  • 台式系统

  • 无损兆声掩模版或晶圆片清洗及旋转甩干

  • 支持12”直径的圆片或9”x9”方片

  • 微处理机自动控制

  • IR红外灯

 SWC-3000 (D)兆声辅助光刻胶剥离系统选配项:

  • 掩模版或晶圆片夹具

  • PVA软毛刷清洗

  • 化学试剂清洗(CDU)

  • 氮气离子发生器



【技术特点对用户带来的好处】-- SWC-3000 (D) 兆声辅助光刻胶剥离系统


【典型应用举例】-- SWC-3000 (D) 兆声辅助光刻胶剥离系统



厂家资料

地址:(香港)香港上环苏杭街84号华威大厦6楼601室

电话:400-6699-117 转 1000

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