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VTC-600-3HD三靶磁控溅射仪

tel: 400-6699-117 7739

沈阳科晶镀膜机, 产品简介:VTC-600-3HD三靶磁控溅射仪是zei新研制开发的镀膜设备,可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。与同类设备相比,其不仅应用广泛,且具有体积小便于操作的优点,是一款实验室制备材料薄膜的理想设备,特别适用于实验室研究固态电解质及OLED等。

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技术参数

1、电源电压:220V   50Hz

2、总功率:2.5KW

3、极限真空度:< ?E-6mbar(配合本公司设备使用可达到?E-5mbar

4、工作温度:RT-500℃,精度±1℃(可根据实际需要提升温度)

5、靶枪数量:3

6、靶枪冷却方式:水冷

7、靶材尺寸:?2″,厚度0.1mm-5mm(因靶材材质不同厚度有所不同)

8、直流溅射功率:500W(可选)

9、射频溅射功率:300W/500W(可选)

10、载样台:?140mm

11、载样台转速:1rpm-20rpm内可调

12、保护气体:ArN2等惰性气体

13、进气气路:质量流量计控制2路进气,每个流量为100SCCM

产品规格

主机尺寸:500mm×560mm×660mm,整机尺寸:1300mm×660mm×1200mm;重量:160kg

标准配件

1

直流电源控制系统

2

2

射频电源控制系统

1

3

膜厚监测仪系统

1

4

分子泵(德国进口)

1

5

冷水机

1

6

冷却水管(?6mm

4

可选配件

金、铟、银、白金等各种靶材


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