技术特点
【技术特点】-- VTC-600-3HD三靶磁控溅射仪
视同VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪操作参考视频
产品型号 | VTC-600-3HD三靶磁控溅射仪 | ||
安装条件 | 本设备要求在海拔1000m以下,温度25℃±15℃,湿度55%Rh±10%Rh下使用。 1、水:设备配有自循环冷却水机(加注纯净水或者去离子水) 2、电:AC220V 50Hz,必须有良好接地 3、气:设备腔室内需充注氩气(纯度99.99%以上),需自备氩气气瓶(自带?6mm双卡套接头)及减压阀 4、工作台:尺寸1500mm×600mm×700mm,承重200kg以上 5、通风装置:需要 | ||
主要特点 | 1、配置三个靶枪,一个配套射频电源用于非导电靶材的溅射镀膜,两个配套直流电源用于导电性材料的溅射 镀膜(靶枪可以根据客户需要任意调换)。 2、可制备多种薄膜,应用广泛。 3、体积小,操作简便。 4、整机模块化设计,真空腔室、真空泵组、控制电源分体式设计,可根据用户实际需要调整购买需求。 5、可根据用户实际需要选择电源,可以一个电源控制多个靶枪,也可多个电源单一控制靶枪。 |
【技术特点对用户带来的好处】-- VTC-600-3HD三靶磁控溅射仪
【典型应用举例】-- VTC-600-3HD三靶磁控溅射仪
镀膜机
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