PLASSYS微波等离子体化学气相沉积系统MPCVD

控制系统：配套有全自动控制系统、工业电脑、必要的数据接口及操作软件；

              支持多级用户权限设置和多用户管理，系统支持设备的远程操作和维护；

              系统含故障报警及定位功能，能及时提示相应故障部件。

              支持半自动和手动操作模式。

设备应用：具备多种用途，以满足用户科研需要；

             适合生长杂质浓度低于1ppb的超高纯度单晶，且有大量专业科技文献佐证；

             适合一次性生长厚单晶以及多种子生长；

             适合金刚石掺杂（硼、磷等）研究及光学级多晶窗口生长。

工艺培训：原厂工程师现场演示金刚石生长，包括种子选择、种子预处理、

              种子的固定及生长工艺等培训，并现场演示单晶生长；

              原厂需具有高水平和丰富的金刚石生长工艺经验。

若有兴趣，可随时联系咨询我们！