PLASSYS 超高真空多腔体电子束蒸镀系统

预处理腔：衬底旋转、倾斜（3D）；干泵+ 分子泵; 真空度10^-8 T

蒸发镀膜腔：电子枪6-15KW；

样品台：可加载4英寸衬底；

               衬底可加热到800℃

               衬底旋转、倾斜，

               倾斜精度和重复性优于0.1°（可升级）

真空泵系统：干泵 + 低温泵；

                       真空度10^-10T或10^-11T

膜厚控制仪：频率分辨率10^-4Hz或更高；

                      速率分辨率10^-3nm/s；

                      厚度分辨率10^-2nm

残余气体分析仪

反应蒸镀：氧气气路+MFC 

氧化腔体：静态/动态氧化

                  臭氧发生器/原子氧发生源/辉光放电；

                  卤素灯加热至zei高200℃

                   残余气体分析仪

分子泵 + 干泵；真空度<10^-8 T

全自动软件包，支持半自动和手动模式，支持远程网络操作和维护。

典型用户：耶鲁大学、日本NTT、中科院物理所、中科大、南大、南方科技大学

欢迎进一步咨询！