该设备是一个灵活和功能强大的等离子体刻蚀和淀积工艺设备。 采用真空进样室进样可进行快速的晶片更换、采用多种工艺气体并扩大了允许的温度范围。
具有zei大的工艺灵活性,适用于化合物半导体,光电子学,光子学,微机电系统和微流体技术, PlasmalabSystem100可以有很多的配置,详情如下。
请扫描二维码查看详细参数
经销商
除厂家/中国总经销商外,我们找不到 牛津仪器等离子体增强化学气相沉积系统(PECVD) PlasmaPro 100 的一般经销商信息,有可能该产品在中国没有其它经销商。
如果您是,请告诉我们,我们的邮件地址是:sales@antpedia.net 请说明: 1.产品名称 2.公司介绍 3.联系方式 |
镀膜机
售后服务
我会维修/培训/做方法
如果您是一名工程师或者专业维修科学 仪器的服务商,都可参与登记,我们的平台 会为您的服务精确的定位并展示。