微电子和半导体用检验系统 DM3 XL

在微电子和半导体行业中，检验、过程控制或缺陷和故障分析的速度至关重要。检测缺陷的速度越快，您做出响应的速度也就越快。

视场宽敞 30%

DM3 XL 检验系统凭借大视场帮助您的团队更快地识别缺陷，提高您的收益率。充分利用独特的宏观物镜，视场宽敞 30%。

更多细节尽收眼底，工作更高效

看到更多细节意味着工作更高效。为快速扫描达到 6“ 的大组件，DM3 XL 提供独特的宏观物镜。

利用 0.7x 放大倍率，它可以即刻采集 35.7 mm 的视场 – 比其他常规扫描物镜宽敞 30%。

在宏观物镜下，缺陷无所遁形：

• 提高您的收益率

• 可靠检测晶片边缘或中心显影不足的区域

• 检测不均匀的径向膜厚度