GATAN Ilion II 697氩离子束抛光系统

Ilion II 697 Gatan氩离子抛光系统是一个用于样品的截面制备及平面抛光的桌面型制样设备，以便样品在SEM及其它设备上进行检测分析。可利用IlionII进行抛光加工的材料种类十分广泛，包括由多元素组成的试样，以及具有不同的机械硬度、尺寸和物理特性的合金、半导体材料、聚合物和矿物等。如焊缝截面，集成电路焊点，多层薄膜截面，颗粒、纤维断面，复合材料、陶瓷、金属及合金、岩石矿物及其他无机非金属。

Ilion II 697 Gatan氩离子抛光系统 主要技术特点：

　　氩离子抛光系统采用两支具有低能聚集的小型潘宁离子枪，可提供快速柔和的抛光效果。低至100eV的离子束提供更柔和的抛削效果，用于样品的抛光。新型低能聚焦电极使得离子束的直径在几乎整个加速电压范围内都保持恒定。每个枪都可准确独立地将离子束对中在样品上，从而产生极高的离子抛光速率。在操作过程中，可随时改变枪的角度。通过控制气体流量可将枪电流变化范围控制在0~100mA之间。在触摸屏上通过手动或者自动方式调节气体流量使每个枪的工作电流得到优化。

　　集成的10英寸彩色触摸屏计算机可对Ilion II的所有操作参数进行完全控制。此界面不仅可以设定所有参数并能够监控抛光过程。所有的操作参数还可以存为配方，调用配方可获得高精度重复实验。

涡轮分子泵搭配两级隔膜泵保证了超洁净环境。Gatan的气动控制Whisperlock技术能实现快速样品交换（< 1分钟），省去了换样过程中必须完全泄真空至大气的烦恼。

1. 气锁装置实现快速样品交换、始终保持洁净的高真空状态

2. 10英寸触摸屏可对系统进行完全控制与监测

3. 配方模式的控制界面，用于一键操作

4. 质量流量控制器提供精确和可重复的氩离子电流的控制

5. 枪电压范围为100V到8000V的三元（阴极、阳极与聚焦极）构造潘宁离子枪

6. 每个枪的抛光角度可调范围为-10度~10度，增量为0.1度

7. 扇形抛光角度可变且可程序化，范围从10度~90度

8. 离子枪无需零件更换，寿命超过30,000小时

9. Gatan的样品/挡板配置，装样简单，再次抛光位置准确

10. 独特的离子束调制功能，可进行扇形抛光和平面抛光

11. 洁净的真空系统，分子泵与隔膜泵搭配

12. 操作简单，维护方便

您的实验室一定需要它------新型扫描电镜样品制备系统

您是否为了一个EBSD样品而泡在实验室一整天，但zei终还是达不到EBSD样品的标定率而苦恼？

您是否为了一个截面样品制备而小心翼翼，但zei终还是无法看到截面样品信息而苦恼？

您是否还为了一个孔隙结构样品被机械抛光操作时填满孔隙结构，而无法判定样品的真实信息而苦恼？

如果是，那您一定需要它：

它就是GATAN  Ilion II 697氩离子束抛光系统，该款设备是在Gatan公司经典的691离子减薄仪技术上发展而来。它的问世改变了此前人们用手动或机械研磨的方法对样品进行研磨抛光的局限性。利用氩离子精密抛光装置，可以获得平滑的截面和平面，而不会对样品造成机械损害，是扫描电镜样品制备的新型手段，目前已经广泛应用于全球各大高校科研院所。

可利用 IlionII  697 进行抛光加工的材料种类十分广泛，包括由多元素组成的试样，以及具有不同的机械硬度、尺寸和物理特性的合金、半导体材料、聚合物和矿物等。

具体应用领域有：

• EBSD 样品

• 光伏、半导体

• 金属(氧化物, 合金)

• 陶瓷

• 地质样品，油页岩

• 高分子，聚合物

• CL

典型应用案例：

一、  EBSD样品制备

氩离子束抛光是利用高电流密度的氩离子束对样品进行减薄，氩离子相对镓离子来说非常轻，产生的应力层、非晶层非常薄，可以避免由于制样方法对实验数据产生的误导，同时由于晶格畸变较小，可以提高 EBSD的标定率，降低标定参数，从而有效提高标定效率，节约时间。以下三幅图片试样采用Ilion II在 1 kV的条件下进行抛光后，在 20 kV条件下得到的碳化钨 /钴样品的 EBSD结果，其中的钴没有发生 FCC到 HCP的相变。（照片由英国曼切斯特大学 A Gholinia博士提供）

二、页岩样品制备

SEM图像，视野：1mm x600 microns， 可见小至4nm的孔隙

三、新能源锂离子电池

有机薄膜

阳极

阴极
粉末样品截面

四、半导体行业-PCB板

五、Si基太阳能电池