技术特点
【技术特点】-- 离子溅射仪ISC150 PRO
采用无油隔膜泵和分子泵组产生一个洁净的10-3 Pa的真空压强,通 常抽真空时间小于5-10分钟。采用高品质恒功率磁控溅射电源,确 保恒定镀膜沉积速率。磁控阴极的使用也有效减少等离子体对样 品的热影响和离子轰击损伤。特别适用于追求高分辨率场发射FESEM 扫描电镜样品的喷金、铂等以及其他金属镀膜用途。触摸屏 自动控制,即插即用。
【技术特点对用户带来的好处】-- 离子溅射仪ISC150 PRO
【典型应用举例】-- 离子溅射仪ISC150 PRO
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