Quorum离子溅射/碳蒸发一体化镀膜仪Q150R Plus

溅射靶材或碳蒸发源的选用指导：

金 – 常规SEM应用时使用最普遍的靶材；溅射速度快且导电效果最好。
银 – 高导电性且具有高的二次电子发射率。溅射上去的银易于去除，可使样品成像后还原到其原来状态。
铂 – 在机械泵抽真空的溅射镀膜系统中它的颗粒尺寸最小，且具有优良的二次电子发射率。
钯 - 用于X射线能谱分析非常理想，因其谱线分布冲突相对较低。
金/钯合金（80:20%） - 通过限制沉积期间金颗粒的团聚，钯可提高最终分辨率。
碳丝蒸镀 – 碳丝蒸镀过程的闪蒸特性及快速更换碳丝的能力，使其处理样品速度非常快。
碳棒蒸发 – 用于需要减慢速度但可控性更好的蒸发过程，可制备更趋向无定形的碳膜。

仪器箱

585 mm 宽 x 535 mm 深 x 410 mm 高

（涂布头打开时的总高度：650 mm）

重量

28 kg（包装：42 kg）

包装尺寸

725 mm 宽 x 660 mm 深 x 680 mm 高

工作腔

硼硅酸盐玻璃 150 mm 内径 x 127 mm 高

显示

115.5mm 宽 x 86.4mm 高（活动区域），640 RGB x 480（显示格式），电容式触摸彩色显示屏

用户界面

带有触摸屏按钮的全图形界面包括最近 1000 次涂层的日志和维护时间提醒等功能。

溅射靶材

圆盘式 57 mm Ø. 0.1 mm 厚的金 （Au） 靶材作为标准配置安装。仅限 R S 和 R ES 版本

试样阶段

直径 50 mm 的旋转平台，转速为 8-20 rpm。

可根据要求提供其他阶段。

真空

旋转泵：可选 5 m3/hr 两级旋转泵，带油雾过滤器（单独订购）

真空测量： 皮拉尼测厚仪

极限真空度：2 x ^10-2 mbar*

溅射真空度范围： 2 x 10-2 和 1 x 10 ^-1 mbar 之间，用于黄金

*用干燥氮气预泵送后，清洁仪器中泵送系统的典型极限真空度

过程

溅射： 溅射电流 1-80 mA 至预定厚度（可选 FTM）或通过内置定时器。最长溅射时间为 60 分钟（无破碎真空，并具有自动内置冷却周期）

碳蒸发： 坚固、无纹波的直流电源具有脉冲蒸发功能，可确保从电源中可重复地蒸发碳。电流脉冲：30-75 A电流。

可视状态指示灯

大型多色状态指示灯可直观地指示设备状态，使用户能够轻松识别远处的进度状态。

LED 指示灯显示以下状态：

• 初始化

• 进程运行

•怠

• 涂层进行中

• 流程完成

• 过程在故障状态下结束

该过程完成后也会响起音频指示。