Q150T Plus涡轮分子泵镀膜仪，高分辨率成像

Q150T Plus涡轮分子泵镀膜仪，高分辨率成像

Q150T Plus使用涡轮分子泵，真空度更低，可以溅射出成膜颗粒更细的易氧化金属。

• 三种型号，溅射、镀碳或两种方式一体。

• 智能手机式用户界面

• 多种样品台选项

Q150T Plus系列产品经过系统优化，内置涡轮分子泵，其真空度可降至5 x 10^-5mbar。

Q150T Plus系列镀膜仪有三款型号：

适用金属靶材镀膜（Q150T S Plus）

适用镀碳（Q150T E Plus）选配金属蒸发功能

同时适用金属镀膜及镀碳（Q150T ES Plus）

金属溅射和碳蒸发两者兼备，一体化设计，结构紧凑，节约空间。

 精细颗粒溅射——适合先进的高分辨率场发射扫描电镜（FE-SEM）制样的应用。
 涡轮分子泵高真空系统——允许溅射宽范围的易氧化和不氧化金属，适合普通SEM、高分辨率FESEM和薄膜材料研究等多种应用。
 全自动触摸屏控制——快速数据输入，操作简单。采用触摸屏作为简单的操作核心，即使最不熟练的或偶而使用的操作者，仪器也能使其快速键入和贮存自己的处理数据。程序中已贮存各种典型的镀膜参数资料供用户直接调用，以便为新手提供进一步的易操作帮助。
  可储存多个客户自定义镀膜方案——对多用户实验室十分理想。
  与镀膜过程和镀膜材料相匹配的自动进气控制真空——无需针阀调节。
  精细的厚度控制——使用膜厚监控选项。
  “智能”式系统识别——自动感知用户所装的插入式镀膜头的类型。
  高真空蒸镀碳——理想的SEM和TEM镀碳膜应用。
  先进的碳棒蒸发枪设计——简单操作，重复性好。
  蒸发电流波形控制——确保获得稳定的可复制碳膜。
  Drop-in落入式快换样品台（标配旋转台）。
  真空闭锁功能：可让工作腔室处于真空状态，改善后续真空效果，或在真空下保存样品。
  镀制厚膜能力——一次真空条件下的溅射时间可长达60分钟（材料科研领域的应用）
  人体工程学设计的整体成型机箱——易维护和易拆装。

Q150T ES PLUS集成了离子溅射和热蒸镀两种真空镀膜方式。溅射插入头装有磁控系统，可使溅射处理期间产生的高能电子偏转，从而远离样品，这有助于创建必要的冷溅射环境以消除热影响，且确保溅射成膜中的精细颗粒结构；碳棒蒸发插入头采用稳定的无纹波直流电源控制的脉冲蒸发方式，确保源自碳棒或碳丝的可重复蒸碳。

Q150T Plus 经过优化，可与涡轮分子泵配合使用，可提供低至 5 x 10^-5 mbar 的低真空度。这使得氧化金属能够溅射，这些金属具有较小的晶粒尺寸，适合高分辨率成像。同样，较低的散射允许高纯度、高密度的无定形碳膜。

主要特点

• 新的触摸和滑动电容屏

• 用于升级和下载过程日志文件的 USB 端口

• 可以在一台计算机上设置多用户配置文件

• 新软件根据最近的使用情况对每个用户的食谱进行分类

• 16GB内存可存储1000多种配方

• 新型多色LED可视状态指示灯

• 能够实现 5 x 10 ^-5 mbar 的真空度

Q150T Plus 提供三种配置：

• Q150T S Plus – 用于非氧化性金属的自动溅射镀膜机。溅射靶材包括;提供 Cr、Ir、W、ITO、Al 等靶标

• Q150T E Plus –用于 EDS 和 WDS 等 SEM 应用的 n 自动碳帘线涂布机。提供金属蒸发/孔径清洁选项。

• Q150T ES Plus – 一种能够进行溅射和碳镀膜的组合系统。沉积头可在几秒钟内更换。

提供金属蒸发/孔径清洁选项。

Q150T Plus的推荐应用：

• 高分辨率放大倍率SEM

• FIB的铂保护层

• 防腐蚀、摩擦、耐磨保护层的研发

• 医疗器械上的保护层

• 疯牛病成像

• EDX、WDS、EBSD分析

• 复制品的碳涂层

这些产品仅供研究使用。

新的用户界面已彻底更新：

• 电容式触摸屏更灵敏，使用方便

• 用户界面软件已经过广泛的修订，使用现代智能手机风格的界面

• 全面的上下文相关帮助屏幕

• USB接口允许轻松进行软件更新和将配方文件备份/复制到USB记忆棒

• 过程日志文件可以通过 USB 端口以 .csv 格式导出，以便在 Excel 或类似格式中进行分析。日志文件包括日期、时间和过程参数

• 16GB闪存可存储1000多种配方

• 双核 ARM 处理器，可实现快速、灵敏的显示

允许多个用户输入和存储涂层配方，并具有根据最近使用情况对每个用户的配方进行排序的新功能。

智能系统逻辑可自动检测哪个刀片就位，并显示该过程的相应操作设置和控制。

系统提示用户确认目标材料，然后自动为该材料选择适当的参数。

直观的软件使最缺乏经验或偶尔操作的操作员能够快速输入和存储自己的过程数据。为方便起见，已经存储了许多典型的溅射和碳涂层轮廓，但也允许用户创建自己的轮廓。

软件检测到在设定的时间段内未能达到真空，并在真空泄漏的情况下关闭过程，从而确保泵免受过热保护。

自动、受控脉冲碳线蒸发

仔细蒸发可以精确控制碳厚度（带或不带可选的薄膜厚度监测器）。通过消除“火花”，所得碳膜的质量也得到了提高，而“火花”是不太先进的涂布机的共同特征。

对于可重复的高质量碳膜，我们建议使用异形碳棒。棒材纯度更高，不易碎屑，更易于控制。脉冲和斜坡碳棒配方作为标准配置提供。

多级选项

Q150T Plus的试样台可满足大多数要求。所有产品均采用易于更换的插入式设计（无螺钉），高度可调（旋转行星载物台除外）。

一些例子：

• 旋转平台（标配）：直径 50 mm 的平台可容纳 <> 个标准短截面。高度可以预设。

• 旋转倾斜载物台，可提高涂层均匀性：直径 50 mm。倾斜度和高度可以预先设置。

• 可变角度旋转行星台，适用于轮廓较大的样品。

• 大型平面旋转平台，带偏置齿轮箱，适用于 4“/100 mm 晶圆。

• 用于玻璃显微镜载玻片的旋转载物台。

可根据要求提供其他选项。

安全

Q150T Plus 符合关键的行业 CE 标准

• 所有电子元件均由盖板保护

• 内爆防护罩可防止用户在腔室故障时受伤

• 真空联锁装置可消除沉积源的电源，以防止用户在腔室打开时暴露于高压

• 当源头盖打开时，电气联锁装置会断开电源

• 过热保护关闭电源