GDS-850辉光放电光谱仪

辉光放电光谱检测方法利用低压，通过氩离子束对样品表面均匀溅射物质的非热能处理技术。溅射出的物质离开样品表面随后被原子化并在低压等离子放电区域被激发。GDS850A就是针对提高实验室进行过程控制和研究，以及研发的技术设计的。

这个型号的仪器可提供非常高的准确的元素总量分析以及对于涂层和表面处理的断面深度定量分析。其提供的光谱分析范围可从120nm 到800nm,元素分析通道可设置到58个。

Features 特性

• 溅射和激发的分离技术

• 具备宽动态范围的线性校准曲线

• 更少的自吸和物质再沉淀现象

• 几乎为排它的原子谱线激发

• 狭窄的特征光谱线及更少的干扰

• 更少的校准所要求的标准样品

• 少量的氩气消耗降低分析成本

• 每次样品分析间隔的阳极自动清扫

Highlight

Typical glow discharge sputter spot  标准辉光放电溅射烧斑

虽然其它的方法可以对样品表面轰击也可以做得很好，但永远做不到对分析的试样每次都能提供这样的典型烧斑。由于采用辉光放电，从表面溅射出来的样品物质非常均匀。样品分析过程的非热能特征对于复杂的应用来说是一种极好的方法。

 Models 型号

GDS-850A

Options 可选部件

RF Source  射频光源

Statistical Software Package  数理统计软件包

Lamp Assembly Kits 光源组建

Sample Holders 试样夹持器

SmartLine  Remote Diagnostics  远距离故障诊断套件

Applications 应用技术资料

Bulk Analysis  总量分析
Steel  钢基
Iron   铁基
Aluminum 铝基
Copper 铜基
Brass/Bronze 黄/青铜
Nickel 镍基
Cobalt 钴基
Titanium 钛合金
Tungsten 钨
Magnesium 镁
Solders 焊料
Zinc 锌
Carbides 碳化物
Powdered Metals 粉末金属

Depth Profiling 断面深度检测
Galvanizing 热镀锌
Plating 电镀层
Thermochemical Treatments 热处理
Coatings 涂层
Clad 金属涂层
Oxide Layers 氧化物涂层
Organic Coatings 有机涂层
Semiconductors 半导体
Glass/Ceramics 玻璃/制陶

GDS850辉光放电光谱仪

辉光放电光谱法采用低压，冷激发光源，材料被氩离子流均匀地从样品表面剥离溅射。 被溅射出的材料原子在远离样品表面低氩的等离子体内被激发。 GDS850的配备提高了实验室的质量控制和研发能力，它提供了非常准确的基体分析以及成分深度剖析涂层分析和表面处理的结果。 仪器检测光谱范围从120到800纳米，最多配置58个通道。

特征

溅射与激发分离

宽动态范围的线性校准曲线

最小自吸收和材料再沉积

原子线激发

少和窄的发射线减少干扰

无冶金记忆效应

较少的校准标样

低氩气消耗

两次分析间的自动清扫

均匀的溅射

其他方法可能只是激发样品表面，所采集的数据并不一定具有代表性。而辉光放电，样品材料均匀地从表面激发溅射， 冷光源的激发为一些困难样品的检测提供了很好的技术。

型号

GDS850

可选件

射频光源

统计软件包

光源套件

样品夹持器

SMARTLINE远程诊断软件求

耗材