UVISEL Plus椭偏仪

UVISEL Specifications

• Spectral range: from 190 to 920 nm │NIR extension option up to 2100 nm

• Detection: High resolution monochromator coupled to sensitive detectors

Manual Configuration

• Spot size: 0.05 – 0.1 – 1 mm (pinhole)

• Sample stage: 150 mm, manual height (20mm) and tilt adjustment

• Goniometer: Manually adjustable angle from 55° to 90° by step of 5°

Automatic Configuration

• Manual or automated spot size: 0.05 - 0.1 - 1 mm or 0.08 - 0.12 - 0.25 - 1.2 mm (pinhole)

• Automation sample stage: 200x200mm, 300x300 mm XY sample stage, manual height (4mm) and tilt adjustment, XYZ sample stage, theta stage

• Automatic goniometer: Automatically adjustable angle from 45° to 90° by step of 0.01°

Integrated Goniometer

• Manual angle of incidence: 35° to 90° by 5° step

• Sample holder: 150mm, 20mm manual z height adjustment

• Autocollimation system for sample alignment in option

• Dimension: width: 25cm; height: 35cm; depth: 21 cm

In situ configuration

• Mechanical adaptation: CF35 or KF40 flanges

• Easy swith between in-situ and ex-situ configurations

• More information

Options

• Accessories: temperature controlled cell, liquid cell, electrochemical cell, reflectometry module to measure reflectance at 0° incidence, and more

• Vision: CCD camera

• More information

Performance

•  Accuracy: Ψ= 45°±0.01° and Δ=0°±0.01° measured in straight-through air configuration1.5 – 5.3 eV

• Repeatability: NIST 1000Å SiO2/Si (190-2100 nm): d ± 0.1 % – n(632.8nm) ± 0.0001

参考招标参数：

吉    林    大    学

椭偏仪采购项目

竞争性磋商文件

项目编号：JLU-ZC19091号

椭偏仪

数量    1台

一、设备基本要求及相关描述

椭偏测量是一种用于薄膜厚度测量的光学技术。由于能够无损表征硅基,玻璃基底等多种基底上生长多层薄膜堆叠特性，椭圆偏振光谱仪已成为薄膜研究中的强大工具。椭偏测量技术是基于对样品表面反射光偏振改变的测量，椭偏法可以精确地推导出薄膜厚度和光学特性（折射率和吸收系数）。光谱测量允许同时确定多个参数，例如多层膜厚度和薄膜堆叠组分。

此次拟购的椭偏仪为全自动高灵敏度光谱型椭偏仪，采用光电调制技术（相调制技术），具有高灵敏度、高精确度、高重复性、反射式微光斑以及快速全谱测量等特点。

二、技术要求

1. 技术要求

1.1 光谱范围覆盖190– 920nm；

1.2 测量范围：Psi= 0°～90°，Delta= 0°～360°；

1.3 测量精度：直射测量空气Psi = 45°Ψ≤45°±0.02°， Delta = 0°Δ≤0°±0.02°；

1.4 测量重复性：80-100nm SiO₂/Si样品，30次测量标准偏差1δ；

1.5 测量膜厚范围1A-40um，误差 d≤±0.4Å；

1.6 测量时间：全光谱1-3分钟；

1.7 样品为透明基底。

2. 主要配置及其技术指标

2.1 激发头

2.1.1 光源：配有监测灯寿命的计时器75 W氙灯；

2.1.2 斩波器，用于调制和背景扣除；

2.1.3 MgF₂ 偏振片。

2.2 探测头

2.2.1光弹晶体调制，频率≥50kHz，恒温控制；

2.2.2 Rochon 偏振片。

2.3 探测系统

2.3.1 双级相加光谱仪，2次分光抑制杂散光；

2.3.2 高杂散光抑制比，紫外＜0,5% @190nm；

2.3.3 光谱分辨率＜0.15nm。

2.3.4 狭缝连续可调；

2.3.5 光电倍增管PMT探测器；

2.3.6 自动量角器，角度可从40°～90°变化，最小步进为0.01°。

2.4 样品台：最大可放置6英寸样品，Z移动范围0-20mm。

3. 计算机和软件

3.1 品牌主机，配备激光打印机；

3.2 Windows下光谱专业软件包主要包含软件配置色散公式，材料模型，仪器控制，数据采集、计算和处理等各项功能。

三、配置要求

四、其他要求

1. 在质保期内，任何由制造商选材和制造不当引起的质量问题，制造商负责免费维修。质保期内内的服务由国内服务机构免费负责，接到用户通知后8小时内响应，维修人员尽快到达现场进行服务。保修期后，制造商提供终身维修和长期免费技术咨询服务。

2. 制造商在中国国内设有办事处，提供技术支持和售后服务。制造商在中国国内设有产品应用中心，为用户提供免费建模服务。