技术特点
【技术特点】-- Q150V Plus超高真空离子溅射/热蒸发镀膜仪
结合潘宁规和皮拉尼规的使用,可以使易被氧化的金属形成超小尺寸的颗粒,以实现高分辨率成像。高真空腔室也可以将氮气,氧气和水完全除去,避免在溅射过程中因化学反应导致杂质和缺陷形成。较低的溅射速率还可获得高纯度和高密度的无定型碳膜。
【技术特点对用户带来的好处】-- Q150V Plus超高真空离子溅射/热蒸发镀膜仪
【典型应用举例】-- Q150V Plus超高真空离子溅射/热蒸发镀膜仪
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