德国SciDre公司推出的高温高压光学浮区炉能够提供高达2200–3000℃以上的生长温度，晶体生长腔压力可达300Bar，甚以及10-5mBar的高真空。适用于生长各种超导材料单晶，介电和磁性材料单晶，氧化物及金属间化合物单晶等。
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| ◆ 竖直双镜设计，采用高照度短弧氙灯 ◆ 熔区温度：>3000℃ ◆ 熔区压力：10-5 mbar 至 300 bar ◆ 多路独立气体流量和气压控制 ◆ 丰富的可升级选件 |
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耐高温、耐高压、高真空、高透光率、拆装简便、带样品污染保护的石英样品腔 | 由德国弗劳恩霍夫应用光学和精密工程研究所优化设计的高反射率镜面，镜体位置和角度可由高精度步进马达控制调节 |
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光阑式光强控制器 更方便地调节熔区温度，延长灯泡寿命 | 仿真化触屏控制软件 界面友好，操作简单 |
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熔区测温选件zl测温技术 可探测熔区和料棒的温度梯度 | 多路独立气路控制选件 |
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气体除杂选件 可使高压氩气中的氧含量达到10-12ppm | 退火选件 可对离开熔区的单晶棒提供高达1100℃退火温度和高压氧环境并可定制退火温度梯度 |
主要技术参数：
熔区温度 | zei高2000 - 3000℃以上 |
熔区压力 | zei大10、50、100、150、300 bar可选 |
熔区真空 | 1*10-2 mbar或 1*10-5 mbar可选 |
熔区气氛 | Ar、O2、N2等可选 |
气体流量 | 0.25 – 1 L/min流量可控 |
氙灯功率 | 3kW 至 15kW可选 |
料棒台尺寸 | 6.8mm 或 9.8mm可选 |
拉伸速率 | 0.1-200 mm/h |
调节速率 | 0.6 mm/s |
拉伸尺寸 | 可达195mm |
旋转速率 | 0-150 rpm |
用电功率 | 400V三相 63A 50Hz |
水冷功率 | 大于8kW |
主机尺寸 | 302cm*163cm*92cm |
| 经销商 | 电话 | 咨询 |
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