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NX-B100多功能整片基板纳米压印系统（热压印） | 最大75毫米直径压印面积 热压印 加热速度>200℃/分钟 制冷速度>60℃/分钟 |
NX-B200多功能整片基板纳米压印系统（热压印和紫外压印） | 最大75毫米直径压印面积 热压印和紫外压印 加热速度>200℃/分钟 制冷速度>60℃/分钟 58mW/cm2紫外LED光源；365纳米或395纳米波长可选；全自动化控制 |
NX-1000多功能整片基板纳米压印系统（热压印） | 标配4英寸,6或8英寸压印面积可选 热压印 加热速度>300℃/分钟 制冷速度>150℃/分钟 |
NX-2000多功能整片基板纳米压印系统（热压印和紫外压印） | 标配4英寸,6或8英寸压印面积可选 热压印和紫外压印 加热速度>300℃/分钟 制冷速度>150℃/分钟 200W窄带紫外光源；365纳米或395纳米波长可选；全自动化控制 |
NX-2500 多功能整片基板带对准功能多层次的纳米压印系统 | 标配4英寸,6或8英寸压印面积可选 热压印和紫外压印 加热速度>300℃/分钟 制冷速度>150℃/分钟 200W窄带紫外光源；365纳米或395纳米波长可选；全自动化控制 带对准功能（亚1微米对准精度） 多层次的纳米压印 对准模块 <1μm 3σ对准准确率 X, Y, Z, Theta平台 分场光学和CCD相机 |
NX-2600 多功能整片基板带对准功能多层次的纳米压印和高分辨率光刻系统 可选背面对准 | 标配4英寸,6或8英寸压印面积可选 热压印和紫外压印 加热速度>300℃/分钟 制冷速度>150℃/分钟 200W窄带紫外光源；365纳米或395纳米波长可选；全自动化控制 带对准功能（亚1微米对准精度） 多层次的纳米压印 对准模块 <1μm 3σ对准准确率 X, Y, Z, Theta平台 分场光学和CCD相机 标配5”模板,标配4”直径基板 其他尺寸可以提供500瓦紫外水银灯光源 |
NX-1000/2000多功能整片基板纳米压印系统
NX-1000/2000整片基板纳米压印系统经过了大量的实时实地验证，质量可靠，性能优越稳定。
具备全部压印模式：热固化、紫外固化和压印。基于独特zl保护的Nanonex气垫软压技术（ACP），不论模版或基板背面粗糙程度如何，或是模版或基板表面波浪和弧形结构，NX-1000/2000均可对其校正补偿从而获得无与伦比的压印均匀性。
ACP消除了基板与模版之间侧向偏移，有效地延长了模版使用寿命。通过微小热容设计可获得快速的热压印周期，最终得到快速的工艺循环。
主要特点：
所有形式的纳米压印
热塑化
紫外固化 (NX-2000)
热压与紫外压印同时进行(NX-2000)
热固化
气垫软压技术(ACP)
Nanonexzl技术
完美的整片基板纳米压印均匀性
高通量
低于10nm分辨率
快速工艺循环时间（小于60秒）
灵活性
4″, 6″, or 8″压印面积可选
各种尺寸及不规则形状模板与基板均可压印
方便用户操作
基于超过12年、15代产品开发经验的自动化压印操作
Nanonex压印系统经过大量实时实地验证，质量可靠，性能优越稳定
系统参数：
热塑压印模块
温度范围0~250℃
加热速度>300o℃/分钟
制冷速度>150℃/分钟
压力范围0 ~ 3.8MPa(500 psi)
紫外固化模块(NX-2000)
200W窄带紫外光源
365纳米或395纳米波长可选
全自动化控制
模版装载功能
4″/5″/6″模版可用于标配纳米压印系统 基板装载
基板装载
标配纳米压印系统可装载4″基板
6″和8″基板可选
各种尺寸及不规则形状模板及基板均可压印
独特zl保护ACP技术可最大限度保护基板和模板，特别对于象磷化铟（InP）等极易碎模板和基板给予最大限度保护。
其他参数：
配有微软Windows的电脑控制系统
用户友好的控制软件
程序化控制压印温度、压力和时间
真空和压缩空气操作由电脑控制
手动装载/拆卸基板
自动化压印操作 设备占地面积:31 × 44 英寸
(780 mm × 1110 mm)
应用领域:
纳米电子和光电子、显示器、数据存储介质、先进材料、生物科技、纳米流道等。
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NX系列 纳米压印和高分辨率光刻系统 的一般经销商信息，有可能该产品在中国没有其它经销商。
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