主要技术指标
离子加速电压 | 2～8kV |
刻蚀速率 | 500μm/h |
承载样品的zei大尺寸 | 11mm(宽度)×10mm(长度)×2mm(厚度) |
样品摆动功能 | 刻蚀过程中，样品自动摆动±30° (zl：第4557130号) |
自动加工开始模式 | 达到设定的压力值后可自动开始加工。 |
间歇加工模式 | 脉冲控制离子束流照射，可以抑制加工时产生的热量。 |
精抛加工模式 | 主加工结束后，自动开始精抛加工。 |
*产品外观及技术规格可能未经预告而有所变更。
请扫描二维码查看详细参数
经销商
|
除厂家/中国总经销商外，我们找不到 日本电子IB-19530CP截面样品制备装置 的一般经销商信息，有可能该产品在中国没有其它经销商。
如果您是，请告诉我们，我们的邮件地址是：sales@antpedia.net 请说明: 1.产品名称 2.公司介绍 3.联系方式 |
电镜制样设备
售后服务
我会维修/培训/做方法
如果您是一名工程师或者专业维修科学 仪器的服务商，都可参与登记，我们的平台 会为您的服务精确的定位并展示。
