技术特点
【技术特点】-- ETD-2000小型离子溅射仪
ETD-2000 型离子溅射仪外观沉稳大气
采用真空自动控制和真空保护电路,使操作和应用更加安全可靠。为扩大应用领域,可同时手动调整溅射仪的电离电流或手动调整其真空微调针阀,改变电离室的压强,获得最佳的喷镀效果。独特的真空橡胶压边密封结构,保证长期使用不会使钟罩边缘出现毛边而影响真空室中的真空度,陶瓷密封高压插头经久耐用。
工作时结合内部自动控制电路很容易控制真空室压强、电离电流及选择所需的电离气体,获得最佳镀膜效果。
配有高位定性的飞跃真空泵
The
ETD-2000 type ion sputtering instrument has a stable atmosphere. It
adopts vacuum automatic control and vacuum protection circuit to make
operation and application safe and reliable. In order to expand the
application field, the ionization current of the sputtering instrument
can be adjusted manually or the vacuum micro adjusting needle valve can
be adjusted manually, the pressure of the ionization chamber is changed,
and the best effect of spray plating can be obtained. The unique vacuum
rubber edge sealing structure ensures long term use will not cause the
edge of the bell to affect the vacuum in the vacuum chamber, and the
ceramic sealing high pressure plug is durable. It is easy to control the
vacuum chamber pressure, ionization current and choose the required
ionization gas when working in conjunction with the internal automatic
control circuit, so as to achieve the best coating effect. Vacuum pump
equipped with high quality
【技术特点对用户带来的好处】-- ETD-2000小型离子溅射仪
【典型应用举例】-- ETD-2000小型离子溅射仪
经销商
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